公開(公告)號
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CN1972926A
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公開(公告)日
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2007.05.30
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申請(專利)號
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CN200580020445.5
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申請日期
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2005.06.13
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專利名稱
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作為組胺受體拮抗劑的吲哚衍生物
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主分類號
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C07D401/12(2006.01)I
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分類號
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C07D401/12(2006.01)I;C07D401/14(2006.01)I;C07D403/12(2006.01)I;C07D403/14(2006.01)I;C07D405/14(2006.01)I;C07D209/42(2006.01)I;A61K31/4439(2006.01)I;A61P3/04(2006.01)I
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分案原申請?zhí)? |
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優(yōu)先權(quán)
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2004.6.21 EP 04102839.0
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申請(專利權(quán))人
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霍夫曼-拉羅奇有限公司
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發(fā)明(設(shè)計)人
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S·G·麥克阿瑟;C·赫特爾;M·H·內(nèi)科文;S·拉夫;O·羅什;R·M·羅德里格斯-薩爾米恩托;F·舒勒;J-M·普蘭凱爾
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地址
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瑞士巴塞爾
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頒證日
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國際申請
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2005-06-13 PCT/EP2005/006303
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進入國家日期
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2006.12.21
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專利代理機構(gòu)
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中科專利商標代理有限責(zé)任公司
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代理人
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王 旭
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國省代碼
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瑞士;CH
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主權(quán)項
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以下通式的化合物, 其中 X是O或S; R1選自由下列各項組成的組: 氫, 低級烷基,低級鏈烯基,低級鏈炔基, 環(huán)烷基,低級環(huán)烷基烷基, 低級羥烷基, 低級烷氧基烷基, 低級烷基硫烷基烷基, 低級二烷基氨基烷基, 低級二烷基氨基甲;榛, 苯基,其未被取代或被一個或兩個獨立地選自低級烷基、低級鹵代烷氧基或低級羥烷基的基團取代, 低級苯基烷基,其中所述苯基環(huán)可以是未取代的或被一個或兩個獨立地選自低級烷基、鹵素、低級烷氧基或低級羥烷基的基團取代, 低級雜芳基烷基,其中所述雜芳基環(huán)可以是未取代的或被一個或兩個獨立地選自低級烷基、鹵素、低級烷氧基或低級羥烷基的基團取代,和 低級雜環(huán)基烷基,其中所述雜環(huán)基環(huán)可以是未取代的或被一個或兩個低級烷基取代; R2選自由下列各項組成的組: 氫, 低級烷基,低級鏈烯基,低級鏈炔基, 環(huán)烷基,低級環(huán)烷基烷基, 低級羥烷基,低級烷氧基烷基, 低級烷基硫烷基烷基, 低級二烷基氨基烷基, 低級二烷基氨基甲酰基烷基, 苯基,其未被取代或被一個或兩個獨立地選自低級烷基、低級鹵代烷氧基或低級羥烷基的基團取代, 低級苯基烷基,其中所述苯基環(huán)可以是未取代的或被一個或兩個獨立地選自低級烷基、鹵素、低級烷氧基或低級羥烷基的基團取代, 低級雜芳基烷基,其中所述雜芳基環(huán)可以是未取代的或被一個或兩個獨立地選自低級烷基、鹵素、低級烷氧基或低級羥烷基的基團取代,和 低級雜環(huán)基烷基,其中所述雜環(huán)基環(huán)可以是未取代的或被一個或兩個低級烷基取代;或 R1和R2與它們連接的氮原子一起形成4-,5-,6-或7-元飽和或部分不飽和雜環(huán),其任選地含有另外的選自氮、氧或硫的雜原子,所述飽和雜環(huán)是未取代的或被一個、兩個或三個獨立地選自下列各項的基團取代:低級烷基,鹵素,鹵代烷基,羥基,低級羥烷基,低級烷氧基,氧代,苯基,芐基,吡啶基和氨基甲酰基,或 與苯基環(huán)稠合,所述苯基環(huán)是未取代的或被一個、兩個或三個獨立地選自下列各項的基團取代:低級烷基,低級烷氧基和鹵素; R3選自由下列各項組成的組:氫,低級烷基,低級烷氧基烷基,低級鹵代烷基,低級環(huán)烷基烷基,低級烷基磺酰基和低級烷; R4是-O-Het并且R5是氫,或 R4是氫或氟并且R5是-O-Het; Het選自 或 其中 m是0,1或2; R6選自低級烷基,環(huán)烷基,低級環(huán)烷基烷基和低級苯基烷基; n是0,1或2; R7是低級烷基; p是0,1或2; q是0,1或2; X選自CR10R10′,O和S; R8,R8′,R9,R9′,R10,R10′,R11和R11′彼此獨立地選自由下列各項組成的組:氫,低級烷基,羥基,鹵素和二烷基氨基,或R9和R10一起形成雙鍵; R12是低級烷基; R13是C3-C6-烷基; 及其藥用鹽。
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摘要
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本發(fā)明涉及式(I)化合物及其藥用鹽,其中X、R1、R2、R3、R4和R5如說明書和權(quán)利要求書中定義,涉及這些化合物的制備和含有它們的藥物組合物。所述化合物有效用于治療和/或預(yù)防與H3受體的調(diào)節(jié)有關(guān)的疾病。
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國際公布
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2005-12-29 WO2005/123716 英
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