| 公開(公告)號(hào) | CN1665504A |
| 公開(公告)日 | 2005.09.07 |
| 申請(qǐng)(專利)號(hào) | CN03815878.7 |
| 申請(qǐng)日期 | 2003.05.12 |
| 專利名稱 | 新晶型的加替沙星 |
| 主分類號(hào) | A61K31/496 |
| 分類號(hào) | A61K31/496;C07D401/04 |
| 分案原申請(qǐng)?zhí)? | |
| 優(yōu)先權(quán) | 2002.5.10 US 60/379,510;2002.6.14 US 60/389,093;2002.8.6 US 60/401,672;2002.8.12 US 60/402,749;2002.9.10 US 60/409,860;2002.11.1 US 60/423,338;2002.12.12 US 60/432,961;2003.2.3 US 60/4 |
| 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 特瓦制藥工業(yè)有限公司 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人 | V·尼達(dá)姆希爾德謝姆;S·維策爾;G·施特林鮑姆;E·阿米爾 |
| 地址 | 以色列佩塔提克瓦 |
| 頒證日 | |
| 國(guó)際申請(qǐng) | PCT/US2003/014811 2003.5.12 |
| 進(jìn)入國(guó)家日期 | 2005.01.04 |
| 專利代理機(jī)構(gòu) | 中國(guó)專利代理(香港)有限公司 |
| 代理人 | 李連濤 |
| 國(guó)省代碼 | 以色列;IL |
| 主權(quán)項(xiàng) | 一種命名為A晶型的晶型加替沙星，其特征在于在約6.4°、12.8°、16.4°、17.3°和19.4°±0.2°2θ出現(xiàn)X射線反射峰。 |
| 摘要 | 提供命名為A晶型、B晶型、C晶型、D晶型、E1晶型、F晶型、G晶型、H晶型、I晶型和J晶型的新晶型的加替沙星以及它們的制備方法。還提供制備已知晶型的加替沙星、特別是Ω晶型和T2RP晶型的加替沙星的方法。 |
| 國(guó)際公布 | WO2003/094919 英 2003.11.20 |
