| 公開(公告)號 | CN101039902A |
| 公開(公告)日 | 2007.09.19 |
| 申請(專利)號 | CN200580031509.1 |
| 申請日期 | 2005.09.20 |
| 專利名稱 | 氨基醇衍生物 |
| 主分類號 | C07C317/46(2006.01)I |
| 分類號 | C07C317/46(2006.01)I;C07D213/38(2006.01)I;C07C317/48(2006.01)I |
| 分案原申請?zhí)? | |
| 優(yōu)先權 | 2004.9.21 AU 2004905450;2005.2.21 AU 2005900789 |
| 申請(專利權)人 | 安斯泰來制藥有限公司 |
| 發(fā)明(設計)人 | 服部浩二;戶田進;鷲塚健一;伊藤真二;田名部大輔;荒木威亙;櫻井稔 |
| 地址 | 日本東京 |
| 頒證日 | |
| 國際申請 | 2005-09-20 PCT/JP2005/017669 |
| 進入國家日期 | 2007.03.19 |
| 專利代理機構 | 中國專利代理(香港)有限公司 |
| 代理人 | 劉 冬;趙蘇林 |
| 國省代碼 | 日本;JP |
| 主權項 | 一種式[I]的化合物或其前藥或其鹽： 其中 -X-為其中-Y-為鍵、-O-、-NH-或-CH2-，和 R4、R5和R6各自獨立為氫、低級烷基或羥基(低級)烷基，或 其中n為0、1或2， R1為氫、鹵素、低級烷基、羥基、低級烷氧基、芳氧基、硝基、氨基、(單或二)(低級)烷基氨基或芳基氨基， R2為氫、低級烷基或羥基(低級)烷基， R3為氫或氨基保護基團， R7為氫、低級烷基、環(huán)(低級)烷基、低級烯基、-Z-R9或其中-Z-為-O-、-S-、-SO-或-SO2-，和R9各自獨立為氫、低級烷基、環(huán)(低級)烷基、低級烯基、氨基甲�；�、低級烷基氨基甲�；�、低級烷基磺�；�、芳基或雜環(huán)基團，和 R8為-D-E-R10，其中-D-為-CONHSO2-或-SO2NHCO-，E為鍵或低級亞烷基，和R10為鹵素、氰基、羧基、低級烷氧基羰基、氨基甲�；⒌图壨榛被柞；�、雜環(huán)基團、-O-R11、-S-R11或其中R11各自獨立為氫、低級烷基、低級烷酰基、低級烷氧基羰基或芳基(低級)烷基。 |
| 摘要 | 本發(fā)明涉及一種式[I]的化合物或其前藥或其鹽：其中(a)，其中-Y-、R4、R5和R6各自如說明書所定義等，R1為氫、鹵素、低級烷基、羥基等，R2為氫、低級烷基或羥基(低級)烷基，R3為氫或氨基保護基團，R7為氫、低級烷基、環(huán)(低級)烷基、低級烯基、-Z-R9或(b)，其中-Z-為-O-、-S-、-SO-或-SO2-，和R9各自獨立為氫、低級烷基、環(huán)(低級)烷基等，和R8為-D-E-R10，其中-D-為-CONHSO2-或-SO2NHCO-，E為鍵或低級亞烷基，R10為鹵素、氰基、羧基等。 |
| 國際公布 | 2006-03-30 WO2006/033446 英 |
