| 公開(公告)號 | CN1829728A |
| 公開(公告)日 | 2006.09.06 |
| 申請(專利)號 | CN200480022006.3 |
| 申請日期 | 2004.07.30 |
| 專利名稱 | 新穎化合物 |
| 主分類號 | C07H15/203(2006.01)I |
| 分類號 | C07H15/203(2006.01)I;C07H17/02(2006.01)I;A61K31/7034(2006.01)I;A61P3/10(2006.01)I |
| 分案原申請?zhí)? | |
| 優(yōu)先權(quán) | 2003.8.1 US 60/491,523 |
| 申請(專利權(quán))人 | 田邊制藥株式會社 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人 | 野村純弘;坂本敏昭;植田喜一郎 |
| 地址 | 日本大阪府 |
| 頒證日 | |
| 國際申請 | 2004-07-30 PCT/JP2004/011311 |
| 進(jìn)入國家日期 | 2006.01.27 |
| 專利代理機(jī)構(gòu) | 北京林達(dá)劉知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 |
| 代理人 | 劉新宇 |
| 國省代碼 | 日本;JP |
| 主權(quán)項 | 一種如下式I的化合物、或其醫(yī)藥上可接受的鹽或其前藥： 式中環(huán)A與環(huán)B表示(1)環(huán)A為可選被取代的不飽和單環(huán)雜環(huán)，且環(huán)B為可選被取代的不飽和單環(huán)雜環(huán)、可選被取代的不飽和稠和雜雙環(huán)或可選被取代的苯環(huán)；(2)環(huán)A為可選被取代的苯環(huán)，且環(huán)B為可選被取代的不飽和單環(huán)雜環(huán)、可選被取代的不飽和稠和雜雙環(huán)或可選被取代的苯環(huán)；或(3)環(huán)A為可選被取代的不飽和稠和雜雙環(huán)，其中-NR-基及-CH2-基均位于該不飽和稠和雜雙環(huán)的同一環(huán)上，且環(huán)B為可選被取代的單環(huán)不飽和雜環(huán)、可選被取代的不飽和稠和雜雙環(huán)或可選被取代的苯環(huán)；以及 R為氫原子、低級烷基、低級烷�；虻图壨檠豸驶�。 |
| 摘要 | 一種如下式I的化合物、或其醫(yī)藥上可接受的鹽、或其前藥，式中環(huán)A與環(huán)B為(1)環(huán)A為可選被取代的不飽和單環(huán)雜環(huán)，且環(huán)B為可選被取代的不飽和單環(huán)雜環(huán)、可選被取代的不飽和稠和雜雙環(huán)或可選被取代的苯環(huán)；(2)環(huán)A為可選被取代的苯環(huán)，且環(huán)B為可選被取代的不飽和單環(huán)雜環(huán)、可選被取代的不飽和稠和雜雙環(huán)或可選被取代的苯環(huán)；或(3)環(huán)A為可選被取代的不飽和稠和雜雙環(huán)，其中-NR-基及-CH2-基均位于該不飽和稠和雜雙環(huán)的同一環(huán)上，且環(huán)B為可選被取代的單環(huán)不飽和雜環(huán)、可選被取代的不飽和稠和雜雙環(huán)或可選被取代的苯環(huán)；以及R為氫原子、低級烷基、低級烷�；虻图壨檠豸驶�。 |
| 國際公布 | 2005-02-10 WO2005/012321 英 |
