公開(公告)號
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CN1756740A
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公開(公告)日
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2006.04.05
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申請(專利)號
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CN200480005921.1
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申請日期
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2004.03.05
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專利名稱
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具有2,6-二取代苯乙烯基的含氮雜環(huán)衍生物
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主分類號
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C07D207/06(2006.01)I
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分類號
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C07D207/06(2006.01)I;C07D211/12(2006.01)I;C07D211/14(2006.01)I;C07D211/16(2006.01)I;C07D211/18(2006.01)I;C07D211/22(2006.01)I;C07D213/16(2006.01)I;C07D215/06(2006.01)I;C07D223/04(2006.01)I;C07D401/06(2006.01)I;C07D451/02(2006.01)I;C07D453/02(2006.01)I;C07
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分案原申請?zhí)? |
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優(yōu)先權(quán)
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2003.3.7 JP 061758/2003
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申請(專利權(quán))人
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安斯泰來制藥有限公司;壽制藥株式會社
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發(fā)明(設(shè)計)人
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菊池和美;奧 誠;藤安次郎;朝井范夫;渡邊俊博;永倉透記;富山泰;曾根川元治;德崎一夫;巖井辰憲
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地址
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日本東京
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頒證日
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國際申請
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2004-03-05 PCT/JP2004/002842
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進入國家日期
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2005.09.05
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專利代理機構(gòu)
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上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司
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代理人
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范 征
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國省代碼
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日本;JP
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主權(quán)項
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以下式(I) 表示的含氮雜環(huán)衍生物或其制藥學(xué)中允許的鹽,前述式(I)中的符號的含義如下所述: R1及R2:相同或不同,表示H-、可被取代的低級烷基、環(huán)烷基、芳基、;、HO-CO-、低級烷基-O-CO-、H2N-CO-、低級烷基-HN-CO-、(低級烷基)2N-CO-、HO-、低級烷基-O-、芳基-O-、;-O-、H2N-、低級烷基-HN-、(低級烷基)2N-、酰基-NH-、鹵原子、硝基、雜環(huán)基或氰基, R3及R4:相同或不同,表示可被取代的低級烷基、環(huán)烷基、酰基、HO-CO-、低級烷基-O-CO-、H2N-CO-、低級烷基-HN-CO-、(低級烷基)2N-CO-、HO-、低級烷基-O-、;-O-、H2N-、低級烷基-HN-、(低級烷基)2N-、;-NH-、鹵原子、硝基或氰基, R5及R6:相同或不同,表示H-、低級烷基或鹵原子, R7及R8:相同或不同,表示H-、低級烷基、HO-、低級烷基-O-或鹵原子,R7及R8還可一起形成為氧代基(O=), R9:H-、可被取代的低級烷基、可被取代的環(huán)烷基、可被取代的;、低級烷基-C(=NH)-、HO-CO-、可被取代的低級烷基-O-CO-、H2N-CO-、可被取代的低級烷基-HN-CO-、(可被取代的低級烷基)2N-CO-、H2NC(=NH)-、H2NC(=NCN)-、H2NC(=N-CONH2)-、H2NC(=NS(=O)2NH2)-、可被取代的低級烷基-SO2-或可被取代的雜環(huán)基-SO2-, R10、R11、R12及R13:相同或不同,表示H-或低級烷基,R10、R11、R12及R13中的任2個基團還可一起形成為氧代基(O=), A:含氮飽和雜環(huán)基,喹啉基或吡啶-4-基,但上式中的A為喹啉基或吡啶-4-基時R9不存在, n:0、1或2。
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摘要
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本發(fā)明提供了新穎的具有2,6-二取代苯乙烯基的含氮雜環(huán)衍生物或制藥學(xué)中允許的鹽及含有該含氮雜環(huán)衍生物或其制藥學(xué)中允許的鹽和制藥學(xué)中允許的載體的醫(yī)藥組合物,特別提供了對神經(jīng)原性疼痛的鎮(zhèn)痛效果較好、副作用有所減少的鈉通道抑制劑用醫(yī)藥組合物。
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國際公布
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2004-09-16 WO2004/078715 日
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