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皮膚瘢痕形成的減少

公開(公告)號 CN1906205A  
公開(公告)日 2007.01.31  
申請(專利)號 CN200480040613.2  
申請日期 2004.11.23  
專利名稱 皮膚瘢痕形成的減少  
主分類號 C07H21/04(2006.01)I  
分類號 C07H21/04(2006.01)I;C12N15/00(2006.01)I;C12N15/09(2006.01)I;C12N15/63(2006.01)I;C12N15/85(2006.01)I;C12N15/86(2006.01)I;A61K48/00(2006.01)I  
分案原申請?zhí)?  
優(yōu)先權 2003.11.24 US 60/524,993  
申請(專利權)人 坎吉有限公司  
發(fā)明(設計)人 D·古;M·澤佩達  
地址 美國加利福尼亞州  
頒證日  
國際申請 2004-11-23 PCT/US2004/039633  
進入國家日期 2006.07.18  
專利代理機構 中國專利代理(香港)有限公司  
代理人 林 森  
國省代碼 美國;US  
主權項 一種減少瘢痕形成的方法,所述方法包括給予具有傷口的對的皮膚含表達盒的多核苷酸,其中所述表達盒包含有效連接至p21WAF1/Cip1編碼多核苷酸的啟動子。  
摘要 本發(fā)明提供了通過在受傷部位表達p21WAF1/Cip1而減少或抑制皮膚瘢痕形成的方法和組合物。  
國際公布 2005-06-09 WO2005/051971 英  
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