公開(公告)號(hào)
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CN101044135A
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公開(公告)日
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2007.09.26
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申請(qǐng)(專利)號(hào)
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CN200580035690.3
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申請(qǐng)日期
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2005.10.07
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專利名稱
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喹啉衍生物
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主分類號(hào)
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C07D401/06(2006.01)I
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分類號(hào)
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C07D401/06(2006.01)I;C07D215/20(2006.01)I;A61K31/47(2006.01)I
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分案原申請(qǐng)?zhí)? |
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優(yōu)先權(quán)
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2004.10.19 EP 04105145.9
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申請(qǐng)(專利權(quán))人
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霍夫曼-拉羅奇有限公司
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發(fā)明(設(shè)計(jì))人
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西爾維婭·加蒂麥克阿瑟;科妮莉亞·赫特爾;馬蒂亞斯·海因里!(nèi)特科文;蘇珊·拉夫;漢斯·里希特;奧利維耶·羅什;羅莎·瑪麗亞·羅德里格斯-薩爾米恩托;弗蘭澤·舒勒
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地址
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瑞士巴塞爾
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頒證日
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國(guó)際申請(qǐng)
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2005-10-07 PCT/EP2005/010814
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進(jìn)入國(guó)家日期
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2007.04.18
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專利代理機(jī)構(gòu)
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中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司
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代理人
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柳春琦
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國(guó)省代碼
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瑞士;CH
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主權(quán)項(xiàng)
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通式I的化合物, 其中 R1選自氫, 低級(jí)烷基,低級(jí)鏈烯基, 環(huán)烷基或低級(jí)環(huán)烷基烷基,其中所述環(huán)烷基環(huán)可以是未取代的或者被選自低級(jí)烷基、低級(jí)羥烷基和低級(jí)烷氧基烷基中的一個(gè)或兩個(gè)基團(tuán)取代, 低級(jí)羥烷基, 低級(jí)烷氧基烷基,和 低級(jí)雜環(huán)基烷基,其中所述雜環(huán)基環(huán)可以是未取代的或者被選自低級(jí)烷基和鹵素中的一個(gè)或兩個(gè)基團(tuán)取代; R2選自氫, 低級(jí)烷基,低級(jí)鏈烯基, 環(huán)烷基或低級(jí)環(huán)烷基烷基,其中所述環(huán)烷基環(huán)可以是未取代的或者被選自低級(jí)烷基、低級(jí)羥烷基和低級(jí)烷氧基烷基中的一個(gè)或兩個(gè)基團(tuán)取代, 低級(jí)羥烷基, 低級(jí)烷氧基烷基,和 低級(jí)雜環(huán)基烷基,其中所述雜環(huán)基環(huán)可以是未取代的或者被選自低級(jí)烷基和鹵素中的一個(gè)或兩個(gè)基團(tuán)取代;或者 R1和R2與它們連接的氮原子一起形成任選含有另外的選自氮、氧或硫的雜原子的4-、5-、6-或7-元飽和或部分不飽和的雜環(huán),所述飽和或部分不飽和的雜環(huán)是未取代的或被一個(gè)、兩個(gè)或三個(gè)獨(dú)立地選自下組的基團(tuán)取代:低級(jí)烷基、鹵素、鹵代烷基、氰基、羥基、羥烷基、低級(jí)烷氧基、氧代基、苯基、芐基、吡啶基和氨基甲酰基; A選自 其中 m是0、1或2; R3是低級(jí)烷基; n是0、1或2; R7是低級(jí)烷基; p是0、1或2; q是0、1或2; R5是氫或低級(jí)烷基; 及其藥用鹽。
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摘要
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本發(fā)明涉及式(I)化合物及其藥用鹽,其中R1、R2和A如說明書和權(quán)利要求書中定義,還涉及包含這些化合物的藥物組合物和它們的制備方法。所述化合物可用于治療和/或預(yù)防與H3受體的調(diào)節(jié)有關(guān)的疾病。
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國(guó)際公布
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2006-05-04 WO2006/045416 英
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