第一部分 鑄 造 全 冠
目的和要求：
1、掌握鑄造金屬全冠的牙體預(yù)備、取印模、試戴和粘固。
2、了解鑄造全冠的蠟型制作，可拆卸代型的制作及磨光技術(shù)。
鑄造全冠的適應(yīng)證：
后牙牙體嚴(yán)重缺損，作充填或嵌體修復(fù)不良者；恢復(fù)后牙的鄰接關(guān)系或咬合關(guān)系。
實(shí)驗(yàn)一 牙體預(yù)備
目的要求：
掌握牙體預(yù)備的原則，牙體預(yù)備的操作方法。
器材：電機(jī)、仿頭模、口腔檢查器械、各種車針，咬合紙、蠟片
步驟：
一、口腔檢查：
缺損情況；根尖情況（X光片)；牙周情況；咬合情況。
二、牙體預(yù)備
1、*面磨除：
目的：為了提供全冠修復(fù)材料所需的間隙，一般為1.0mm。
方法：先用直徑為1.0mm的球形車針或柱形車針在牙體*面中央窩先磨出幾個(gè)深1.0mm 的引導(dǎo)溝，在開(kāi)辟成深溝，以此溝為參照，按*面形態(tài)均勻磨除。
檢查方法：用6層咬合紙（咬合紙無(wú)明顯印記)或蠟片檢查磨除量是否合適（蠟片最薄處用測(cè)量尺檢查)。
要求：盡量保持*面解剖形態(tài)
2、頰舌面磨除：
目的：消除倒凹，將軸面最大周徑降至頸緣，預(yù)備出全冠需要的厚度。
方法：1)用870-012或870-14錐形或柱形金剛砂車針從頰舌面外形最高點(diǎn)到齦緣處消除倒凹，軸壁與就位道平行；
2)在從外形高點(diǎn)處到*緣，順牙冠外形預(yù)備出修復(fù)體足夠的間隙約1.0mm。
注意：咬合運(yùn)動(dòng)中所需的間隙。
要求：磨除量為1.0mm，消除倒凹并將最大周徑降至頸緣。
3、近遠(yuǎn)中磨除：
鄰面預(yù)備的目的：預(yù)備出全冠修復(fù)材料所要求的鄰面空隙，消除患牙的倒凹，形成協(xié)調(diào)的戴入道（即就位道：修復(fù)體戴入的方向)。
方法：1)先用柱形金剛砂車針將軸面角處預(yù)備出足夠的間隙，保證全冠頰舌外展隙的外形。
2)以金剛砂車針從患牙鄰面磨除，消除齦緣以上的倒凹。
要求：1)無(wú)倒凹、無(wú)肩臺(tái)。
2)與就位道一致近遠(yuǎn)中面近于平行，稍向*方聚攏2-4°
4、軸面角預(yù)備
目的：預(yù)備出頰舌外展隙，保證修復(fù)體的自潔作用。
方法：用一個(gè)30006-012金剛砂車針平行牙體長(zhǎng)軸切割，消除四個(gè)軸面角，使頸緣以上無(wú)倒凹。
5、頸部預(yù)備
目的：預(yù)備肩臺(tái)
方法：收縮牙齦2-3min，用低速手機(jī)裝H282-010車針，以一定順序按照設(shè)計(jì)的頸緣位置沿牙體頸緣線進(jìn)行預(yù)備。
要求：制備圓凹形或帶斜面肩臺(tái)。邊緣連續(xù)一致，平滑，無(wú)粗糙，無(wú)銳邊。
6、牙體修整：
用刃狀石或裂鉆將軸面角、邊緣嵴處的線角磨圓鈍；用砂紙片精修完成。
注意：
1.電機(jī)轉(zhuǎn)速慢且間斷磨除。
2.支點(diǎn)要近，且支于硬組織上，注意保護(hù)口腔軟硬組織。
3.近*1/3頰舌向要有足夠的組織磨除，以免加大頰舌徑和頰舌尖的距離。
實(shí)驗(yàn)二、取印模、制作可拆卸代型（示教)
目的要求：
1、熟悉并掌握取印模、灌模型的方法。
2、了解可拆卸代型的制作。
步驟
一、取印模
1.選托盤：選擇合適的局部托盤。
2.調(diào)彈性印模材，水：粉=1：2。
3.制取預(yù)備體印模。
要求：
1、預(yù)備體、鄰面完整（取印模時(shí)先將少量印模材用手指從左到右壓入鄰面間隙，然后再將承載印膜材的托盤就位)
2、頸緣、*面清晰無(wú)氣泡。
3、臨近天然牙*面清晰完整，無(wú)氣泡
三、灌模型
在震蕩條件下，用超硬石膏灌注模型
要求：
1、*面、頸緣清晰無(wú)氣泡。
2、石膏要有足夠的硬度。
四、制作可拆卸代型：
1、修整模型：在石膏打磨機(jī)上將模型底座磨平，并將模型修整呈馬蹄形，
注意：
（1)保護(hù)模型；防止模型斷裂，防止損壞牙列中牙齒外形，尤其是預(yù)備體。
（2)預(yù)備體頸緣線距模型底邊約1cm左右。
2、插代型固位釘：在預(yù)備體及余留牙底部用打孔機(jī)打孔5-6個(gè)，將代型固位釘插入并用502膠固定。
3、可拆卸代型的形成：模型底部涂布凡士林，用普通石膏在型盒中灌注工作模型的底座，待石膏凝固后，用石膏鋸緊貼預(yù)備體與其預(yù)備體長(zhǎng)軸平行鋸開(kāi)硬石膏達(dá)到兩種石膏的交界處。
注意：①、為了增加代型穩(wěn)定性，可在固位釘周圍預(yù)備不平行的固位溝。
②、不要損壞鄰面的接觸區(qū)。
4、取下帶有固位釘?shù)拇�，用慢速圓形磨頭修整牙齦邊緣部位石膏，使肩臺(tái)邊緣清晰暴露。
五、涂分離劑
在整修好的石膏代型的各軸面及牙合面均勻涂布代型隙料，一方面可以補(bǔ)償金屬的鑄造收縮，另一方面為粘固劑留下均勻的空隙。
注意：預(yù)備體的肩臺(tái)及近頸緣處1mm高度不涂代型隙料，以免影響全冠的密合性。
實(shí)驗(yàn)三、鑄造全冠蠟型的制作、包埋、鑄造
目的要求：
1、初步掌握鑄造全冠的蠟型的制作方法
2、掌握嵌體蠟的使用。
步驟：
一、鑄型的形成
1、蘸蠟法：
（1)將嵌體蠟放入熔蠟器中，調(diào)整溫度為96。
（2)代型涂分離劑，待蠟融化后，將代型冠部整個(gè)浸入蠟中，迅速取出，代型冠部即有一層蠟?zāi)�。反�?fù)數(shù)次，達(dá)到應(yīng)有厚度。
（3)將代型放回原模型處，依照咬合加蠟，雕出解剖外形，酒精噴燈上光，完成鑄造全冠蠟型。
2、滴蠟法：
（1)代型冠部及鄰牙涂分離劑。
（2)用熱蠟刀蘸蠟滴于冠部表面，形成蠟?zāi)ぁ?/P>
（3)取下蠟?zāi)ず笤賹⑵鋸?fù)位,依照咬合加蠟。
（4)依照咬合雕出解剖外形，完成蠟型的制作
二、安插鑄道
在蠟型的非功能尖安插鑄道。
三、包埋
1、選擇鑄圈：選擇大小合適的鑄圈，調(diào)整鑄道長(zhǎng)度，并將蠟型固定在鑄座上，使蠟型位于鑄圈中1/3與上1/3交界處。
2、蠟型處理：用毛筆蘸肥皂液清洗蠟型表面，沖洗干凈。
3、包埋材料的選擇：中熔合金一般采用石英粉（70%-80%)和半水石膏（20%-30%)為主要成分的包埋材料，其中加入少量硼酸及石墨，以增加鑄模的強(qiáng)度和表面光潔度。高熔合金則需選用硅酸乙酯包埋材料或磷酸鹽包埋材料。
4、包埋方法：
（1)按照材料要求的水、粉比例調(diào)拌包埋材料，調(diào)和過(guò)程中邊調(diào)和邊震蕩，以排除包埋料中的氣泡。
（2)用毛筆蘸調(diào)好的包埋料糊劑，輕輕涂在蠟型的各方面，尤其注意涂布其點(diǎn)角、線角及邊緣處。
（3)將浸濕的鑄圈安置于鑄造座上，放于振蕩器上，開(kāi)啟振蕩器，調(diào)至合適的震蕩強(qiáng)度，將包埋料沿鑄圈內(nèi)壁漸漸傾入，直至包埋料灌滿鑄圈。
四、焙燒
1、蠟型包埋后，經(jīng)12-24小時(shí)干燥凝固，去除鑄座，將鑄道孔向下，放入電烘烤箱（茂福爐)中加熱。
2、升溫到300℃，維持1小時(shí)，使鑄圈充分干燥，除盡全部蠟質(zhì)，如有金屬鑄道針，應(yīng)該用鑷子小心取出。
3、將鑄圈倒置，孔道向上，升溫到700℃，維持30分鐘，至鑄圈孔道呈櫻桃紅色，此時(shí)可進(jìn)行中熔合金鑄造。
4、使用高熔合金鑄造，鑄圈溫度應(yīng)繼續(xù)升溫900℃，維持15-20分鐘，使高熔包埋材有足夠的溫度膨脹，而后進(jìn)行鑄造。
五、鑄造
鑄造是根據(jù)不同的合金熔點(diǎn)，采用不同的熱源使合金熔化，再通過(guò)一定的壓力使鑄金流入鑄模腔內(nèi)，形成所需要的鑄件的過(guò)程。本處將介紹高頻離心鑄造法。
1、根據(jù)所鑄合金，調(diào)節(jié)鑄造機(jī)的熔金選擇擋到高熔合金，接通電源，機(jī)器預(yù)熱10分鐘。
2、將適量的鑄造用合金放入坩堝內(nèi)，取出鑄圈，放于支架上，調(diào)節(jié)平衡砣，使水平桿平衡，調(diào)節(jié)支架桿，使坩堝口與鑄圈鑄道口相對(duì)。
3、將鑄圈重新加熱后，放回支架上，坩堝頂住鑄圈。對(duì)準(zhǔn)鑄造機(jī)的準(zhǔn)線，蓋上機(jī)蓋及其上的觀察窗。
4、按下熔金開(kāi)關(guān)，觀察合金直至熔融，馬上按鑄造開(kāi)關(guān)，10-15秒后，再按停止，鑄造完畢。
5、鑄造機(jī)冷卻10分鐘后切斷電源，清掃、關(guān)機(jī)。
實(shí)驗(yàn)四、磨光、試戴、粘固
目的要求：
掌握磨光的方法和試戴中各種情況的分析及處理
步驟：
一、將鑄冠戴在石膏代型上，修整邊緣。
二、磨光
1、磨平：磨平是磨光的先提條件。
應(yīng)遵循細(xì)砂石輪修平，砂布卷磨平即由粗漸細(xì)的過(guò)程。
2、磨光：用橡皮輪磨光，最后用布輪粘氧化鉻拋光劑拋光。
三、試戴：將鑄冠消毒吹干，放于患牙上試戴。試戴時(shí)可能發(fā)生的問(wèn)題有：
1、就位困難：
原因：A牙體預(yù)備有肩臺(tái)，有倒凹；
B石膏代型磨損。
C冠邊緣過(guò)長(zhǎng)且外翹；
D代型肩臺(tái)內(nèi)收；
E接觸點(diǎn)恢復(fù)過(guò)多。
2、*關(guān)系不好：
原因：A咬合高，牙體預(yù)備不足；牙齒繼續(xù)萌出；恢復(fù)過(guò)多。
B咬合低，石膏代型*面恢復(fù)不足。
3、鄰接關(guān)系
原因：A過(guò)緊，鄰面接觸點(diǎn)恢復(fù)多；
B過(guò)松，鄰面接觸點(diǎn)恢復(fù)少。
根據(jù)以上不同情況調(diào)磨鑄冠，經(jīng)磨改仍不合適，則需要重做。
四、粘固
用75%的酒精常規(guī)消毒患牙，吹干，隔濕，調(diào)玻璃離子粘固劑粘固。用探針去除多余粘固劑。
第二部分 固定義齒
目的和要求：
1、掌握固定義齒修復(fù)的適應(yīng)證。
2、掌握固定橋的設(shè)計(jì)。
3、了解鑄造金屬固定橋制作全過(guò)程。
固定橋的適應(yīng)證：
1、缺牙數(shù)目：一般缺失1-2個(gè)。
2、缺牙部位：一般不受限制，但后牙游離缺失，不宜做單端固定橋。
3、缺牙區(qū)牙槽骨情況：拔牙后3個(gè)月才能進(jìn)行固定修復(fù)。
4、基牙條件：冠和根均較長(zhǎng)，牙髓無(wú)病變，活髓牙或經(jīng)治療的死髓牙，牙
齦、牙周無(wú)病變，牙槽骨結(jié)構(gòu)正常，牙槽骨吸收小于根長(zhǎng)1/3。
5、咬合關(guān)系：缺牙區(qū)咬合關(guān)系基本正常。
6、余留牙情況：良好。
7、年齡：在20～50之間。
8、全身情況：良好。
9、口腔衛(wèi)生：一般應(yīng)進(jìn)行常規(guī)潔治。
10、職業(yè)：某些特殊職業(yè)應(yīng)最好選用固定修復(fù)。
實(shí)驗(yàn)一、固定義齒的設(shè)計(jì)、牙體預(yù)備、鑄造固定橋蠟型的制作
目的要求：
1、掌握固定義齒的設(shè)計(jì)原理。
2、掌握固定義齒的牙體預(yù)備原則。
器材：同牙體缺損部分
步驟：
根據(jù)口腔檢查和適應(yīng)證進(jìn)行合理設(shè)計(jì)，然后進(jìn)行制作。
一、牙體預(yù)備：固定義齒的牙體預(yù)備方法和原則與牙體缺損制備修復(fù)體時(shí)的牙體預(yù)備基本相同，但應(yīng)該注意以下幾個(gè)方面：
1、各基牙的固位體必須有共同就位道。
2、增強(qiáng)固位體的固位力。
3、牙體預(yù)備后基牙發(fā)生過(guò)敏現(xiàn)象的處理。如囑患者勿吃過(guò)冷過(guò)熱食品，以免刺激牙髓；用藥物脫敏；必要時(shí)可制作一個(gè)塑料臨時(shí)固定橋。
二、取印模：同牙體缺損的修復(fù)（略)
三、灌模型：同牙體缺損的修復(fù)（略)
四、制作可拆卸代型：同牙體缺損的修復(fù)（略)
五、蠟型的制作：
1、固位體的制作：同鑄造全冠
2、連接體蠟型的制作：連接體的位置在固位體唇舌向居中略偏舌側(cè)，齦端應(yīng)離開(kāi)固位體邊緣至m.zxtf.net.cn/sanji/少1.5-2.0mm,以便留出足夠的鄰間隙。連接體切齦向厚度至少為2.5mm，唇舌向厚度不宜太厚，連接體與固位體的連接處應(yīng)呈平緩的曲面，不能形成銳角或狹縫。
3、橋體的蠟型的制作：橋體為正常的牙體外形，應(yīng)注意：
（1)橋體齦面為改良鞍式，減小舌側(cè)與牙槽嵴接觸的面積，擴(kuò)大外展隙。
（2)采取減小*力的措施。
六、安插鑄道、包埋、鑄造、磨光、試戴同牙體缺損的修復(fù)（略)
第三部分 膠連法制作可摘部義齒
實(shí)驗(yàn)一 修復(fù)前的口腔準(zhǔn)備、取印模、灌模型
目的要求：
1、掌握口腔檢查的方法及可摘局部義齒修復(fù)前的準(zhǔn)備。
2、初步掌握取印模、灌模型的方法。
3、學(xué)會(huì)彈性印模材、石膏的使用方法及注意事項(xiàng)。
器材:
仿頭模、口腔檢查器一份、刃狀石、戴石針、印模托盤、彈性印模材、石膏調(diào)刀、橡皮碗、蠟片、玻璃板、石膏、電機(jī)、全口塑料牙模型。
步驟：
一、口腔檢查
1、了解患者的全身健康情況。
2、口內(nèi)的檢查：
（1)缺失牙部位及缺隙情況：缺牙的部位及數(shù)目，缺牙區(qū)間隙的大小；檢查拔牙窩的組織變化；剩余牙槽嵴的高低、形態(tài)和豐滿度；牙槽嵴有無(wú)骨尖、骨嵴、倒凹等。
（2)余留牙情況：基牙牙冠形態(tài)、牙周其支持組織的健康狀況；了解余留牙的情況及咬合關(guān)系。
（3)軟組織和周圍肌肉的附麗情況：軟組織的形態(tài)、色澤、彈性、厚度等。
m.zxtf.net.cn/rencai/;（4)頜骨的情況：上下頜骨大小，前后左右是否相配。
3、頜面部檢查：了解頜面的對(duì)稱性；口唇的形態(tài)和位置；重點(diǎn)檢查顳下頜關(guān)節(jié)和咀嚼肌的狀態(tài)。
二、修復(fù)前的口腔準(zhǔn)備
1、余留牙的準(zhǔn)備：
（1) 余留牙上的不良修復(fù)體應(yīng)予以拆除。
（2) 余留牙中畸形牙、錯(cuò)位牙、牙體嚴(yán)重破壞的牙、重度松動(dòng)牙、重度傾斜移位的牙及其它對(duì)修復(fù)不利者，均應(yīng)拔出。
（3)有一定保留價(jià)值的形態(tài)異常牙、牙體病、牙髓病、殘冠、殘根、輕度松動(dòng)牙等要先治療。
2、缺牙間隙的準(zhǔn)備：
（1)缺牙區(qū)的殘根、骨尖、游離骨片應(yīng)拔除；
（2)對(duì)頜牙的調(diào)整；
（3)缺隙兩側(cè)基牙向缺隙傾斜的調(diào)整。
3、牙槽骨的修整、系帶附麗的矯治。
三、初步設(shè)計(jì)：
根據(jù)口腔檢查情況和設(shè)計(jì)原則進(jìn)行初步設(shè)計(jì)，確定卡環(huán)的分布，支托的位置，基托的伸展。主要包括以下幾個(gè)內(nèi)容：
1、基牙應(yīng)選擇形態(tài)正常、牙周健康、牙周膜面積大、牙根其支持組織健康者；根據(jù)缺牙數(shù)目多少，選擇2~4個(gè)基牙；選擇鄰近缺隙的牙作基牙；選擇多個(gè)基牙時(shí)，彼此分散度越大，固位越好。
2、固位體應(yīng)盡量分散，面式、三角式固位設(shè)計(jì)較線式固位更有利于義齒的穩(wěn)定。
3、基托的設(shè)計(jì)： 根據(jù)缺牙數(shù)目、部位及固位體的位置設(shè)計(jì)基托的大小及伸展范圍。
4、人工牙的選擇：前牙應(yīng)重點(diǎn)考慮美觀的恢復(fù)，后牙注重咀嚼功能的恢復(fù)。
四、牙體預(yù)備
1、支托窩的預(yù)備：
（1)位置：后牙的近遠(yuǎn)中邊緣嵴、尖牙的舌隆突、下前牙切緣，如咬合過(guò)緊則可放在上頜磨牙的頰溝或下頜磨牙的舌溝。
（2)形態(tài)：鑄造*支托呈匙形或呈圓三角形，其越伸向*面中央越窄；長(zhǎng)度為磨牙近遠(yuǎn)中徑的1/4、雙尖牙的1/3；寬度為磨牙頰舌徑的1/3、 雙尖牙的1/2；厚度約為1~1.5mm；*支托凹底與基牙長(zhǎng)軸垂線成20°，且*支托凹面與鄰面相交的線角應(yīng)磨圓鈍。
（3)選擇適當(dāng)大小的刃狀石或小輪狀石磨除以上形狀及深度，用探針或蠟片檢查。
2、隙卡鉤的制備：
（1)用稍鈍的刃狀石沿相鄰兩牙的*外展隙方向，進(jìn)行頰舌向和近遠(yuǎn)中向磨切兩牙的釉質(zhì)；
（2)溝底圓鈍，與卡環(huán)鋼絲直徑一致，寬度一般為0.9~1.0mm；
（3)注意：不要破壞兩個(gè)相鄰牙的接觸點(diǎn)；正中*及非正中*時(shí)均應(yīng)注意間隙是否足夠。
五、取印模
1、選托盤：
選擇成品的平底有孔托盤，托盤應(yīng)寬于牙弓3~4mm。長(zhǎng)度：非游離端缺損要蓋住
最后一個(gè)基牙；游離端缺損，上頜要蓋住上頜結(jié)節(jié)，下頜要蓋住磨牙后墊的1/2；高度：托盤邊緣的高度不超過(guò)粘膜皺襞。
2、取工作印模：
(1) 取上頜工作印模：將調(diào)好的彈性印模材放在上頜托盤上，用口鏡或手指牽拉口角將托盤旋轉(zhuǎn)放入口中（托盤柄對(duì)準(zhǔn)中線：托盤距唇頰有3—4毫米間隙)。托盤由后向前順序就位，用右手中指在上頜中央施加適當(dāng)壓力保持穩(wěn)定，直至印模材凝固為止。在印模材的可塑期內(nèi)進(jìn)行功能整塑。用手輕輕拉動(dòng)唇頰，亦可讓患者做吸吮動(dòng)作。這樣將周邊組織的運(yùn)動(dòng)情況清楚地印在印模上。
(2) 取下頜印模：下頜托盤上放適量的彈性印模材，將托盤對(duì)正面部中線，在托盤未就位之前讓患者將舌抬起后托盤就位，然后用左手中食指分別放在左右雙尖牙區(qū)，同時(shí)以拇指放于該部給以支持，使印模材凝固過(guò)程中保持穩(wěn)定，在印模材可塑期內(nèi)拉唇向上、前、內(nèi)并讓患者舌頭前伸且左右擺動(dòng)。凝固后從口中取出。
取印模要領(lǐng)：旋轉(zhuǎn)進(jìn)入、對(duì)準(zhǔn)中線、顫動(dòng)就位、雙側(cè)固定（左右雙尖壓區(qū))。
3、檢查印模：
基牙及余留牙的形態(tài)清楚，完整，邊緣伸展適度。游離缺失時(shí)，上頜后緣中部蓋過(guò)腭小凹，兩側(cè)蓋過(guò)上頜切跡，下頜后緣蓋過(guò)磨牙后墊，印模邊緣圓滑且反映出唇頰系帶活動(dòng)印跡。對(duì)頜印模只要求牙列*面和牙冠形態(tài)完整清楚。
六、灌模型
1、用水沖洗干凈印模中的唾液、滲血，然后甩干。
2、先取適量水放入橡皮碗中，慢慢加石膏（水與石膏的比例是：0.45~0.6)，用調(diào)拌刀攪拌，輕輕振動(dòng)排除氣泡。
3、灌模型：上頜：將石膏放于上頜最高處輕輕振動(dòng)，緩慢流入印模最低處，待組織面灌滿后，用適量石膏加至約一厘米，再將剩余石膏注在玻璃板上進(jìn)行修整 ；下頜：將石膏放于下頜印模的一側(cè)末端慢慢振動(dòng)直至流到另一端，組織面充滿后，加入適量的石膏并形成模型底座，舌側(cè)應(yīng)用石膏連接兩側(cè)牙弓，勿使下頜模形成馬蹄狀，石膏硬固后（一般為20—30分鐘)，將印模從模型上分離下來(lái)。
4、一般20~30分鐘將模型取下。
注意：
（1)工作模型不宜過(guò)大過(guò)厚，模型翻轉(zhuǎn)在玻璃板時(shí)不宜用力加壓。
（2)模型應(yīng)無(wú)氣泡，基牙*支托窩隙卡鉤，缺隙處牙槽嵴清楚，組織面清晰，模型應(yīng)有足夠的厚度。
（3)下頜舌側(cè)應(yīng)有石膏充滿，切忌形成馬蹄形。
5、取頜記錄：
（1)在模型上利用余留牙直接確定上下頜的*關(guān)系。適用于缺牙少，*關(guān)系穩(wěn)定準(zhǔn)確者。
（2)利用蠟*記錄確定上下*關(guān)系：用于在口內(nèi)可保持上下頜垂直關(guān)系，但在模型上較難確定準(zhǔn)確地*關(guān)系。如上下牙交錯(cuò)缺失；牙尖過(guò)渡磨耗伴有缺牙者等。
（3)利用*堤記錄上下頜關(guān)系：雙側(cè)或單側(cè)游離缺失，每側(cè)連續(xù)缺失兩個(gè)牙以上，或者上下牙列所缺牙齒無(wú)對(duì)頜牙相對(duì)者。
實(shí)驗(yàn)二 模型設(shè)計(jì)
目的要求：
1、掌握模型設(shè)計(jì)的目的。
2、初步掌握模型設(shè)計(jì)的方法。
3、初步掌握模型傾斜的原則。
4、學(xué)會(huì)觀測(cè)器的使用。
器材：
觀測(cè)器、鉛筆、填凹材料、調(diào)刀等。
觀測(cè)模型：是模型設(shè)計(jì)的重要內(nèi)容和不可缺少的步驟，其過(guò)程是使用觀測(cè)儀的分析桿檢查基牙和粘膜組織的倒凹情況，并繪出各基牙的觀測(cè)線。
模型設(shè)計(jì)：是用觀測(cè)儀的分析桿檢查個(gè)基牙和粘膜組織的倒凹情況，確定可摘局部義齒的就位道，繪出各基牙的觀測(cè)線，設(shè)計(jì)卡環(huán)的類型和位置、基托的伸展范圍等，形成可摘局部義齒的最終設(shè)計(jì)。
一、模型設(shè)計(jì)的目的
1確定義齒的共同就位道：共同就位道是指各個(gè)基牙上的固位體戴入和摘除的方向和角度；
2畫出基牙的觀測(cè)線；
3確定卡環(huán)的類型及在基牙上的位置；
4確定基托的伸展范圍。
二、確定共同就位道
1選擇就位道的要求：
①便于可摘局部義齒的摘戴；
②有利于義齒的固位；
③有利于美觀。
2確定共同就位道的方法：通過(guò)傾斜模型改變倒凹的分布。
①平均倒凹：將模型放于平均分配基牙的近遠(yuǎn)中及頰舌向倒凹的位置。
適用：多缺隙，基牙倒凹較大者。
方法：將模型固定在觀測(cè)臺(tái)上，使牙列的*平面與觀測(cè)臺(tái)的平面基本平行，初步畫出導(dǎo)線后，再根據(jù)各基牙上所標(biāo)出的倒凹深度情況來(lái)調(diào)節(jié)模型的傾斜度直至各基牙倒凹深度基本接近。
②調(diào)節(jié)倒凹：對(duì)鄰近缺隙兩端的基牙的近遠(yuǎn)中倒凹不做平均分配，而有意將倒凹集中在基牙的一端或一側(cè)。以便得到所需的觀測(cè)線，設(shè)計(jì)合適的卡環(huán)，利用有利的倒凹。
適用于：基牙牙冠短，長(zhǎng)軸彼此平行，*力與長(zhǎng)軸一致者。
方法：通過(guò)調(diào)節(jié)觀測(cè)儀平臺(tái)的傾角，使模型向前或向后傾斜而達(dá)到調(diào)節(jié)倒凹，形成所需就位道。
3共同就位道與模型傾斜方向的關(guān)系：
①模型向后傾斜時(shí)，共同就位道由前向后；
②模型向前傾斜時(shí)，共同就位道由后向前；
③模型向左傾斜時(shí)，共同就位道由右向左；
④模型向右傾斜時(shí)，共同就位道由左向右；
⑤模型平放時(shí)，在上頜者，共同就位道由下向上；在下頜者，共同就位道由上向下。
4模型傾斜的原則
①前牙缺失
⑴牙槽嵴豐滿，唇側(cè)有倒凹時(shí)，模型應(yīng)向后傾斜，義齒由前向后斜向就位，使唇側(cè)倒凹減小，有利于美觀；
⑵唇側(cè)倒凹小或無(wú)倒凹，應(yīng)將模型向前傾斜，義齒由后向前就位將倒凹集中在基牙的近中側(cè)，固位較好。
②后牙缺失（當(dāng)缺隙前后都有基牙時(shí))
⑴后端基牙健康，應(yīng)將模型向后傾斜，使后端基牙頰側(cè)形成一型觀測(cè)線，將固位、穩(wěn)定和支持作用好的三臂卡環(huán)放在該牙上，義齒由前向后就位；
⑵后端基牙不夠健康而前端基牙健康時(shí)，則將模型向前傾斜，義齒由后向前就位；⑶缺隙前后基牙倒凹不大，可以平均倒凹。
③后牙游離缺失
不論單側(cè)或雙側(cè)游離缺失，均可將模型向后傾斜增加基牙遠(yuǎn)中倒凹，形成二型觀測(cè)線，制作二型卡環(huán)固位并可以防止義齒翹動(dòng)和減輕基牙的負(fù)擔(dān)，義齒由前向后就位。
④前后牙均有缺失
⑴將模型向后傾斜使前牙倒凹減小，天然牙與人工牙間的縫隙減小，義齒由前向后就位。
⑵前后牙倒凹均小時(shí)，可將模型平放，義齒就位方向與*力方向一致。
⑤一側(cè)牙齒缺失
當(dāng)對(duì)側(cè)余留牙舌側(cè)倒凹過(guò)大，則將模型向有牙側(cè)傾斜，以減小過(guò)大的舌側(cè)倒凹，義齒從缺牙側(cè)向有牙側(cè)就位。
三、觀測(cè)線與卡環(huán)類型的關(guān)系
1觀測(cè)線的種類
①一型觀測(cè)線：基牙向缺隙相反方向傾斜時(shí)所畫出的觀測(cè)線。
特點(diǎn)：近缺隙側(cè)倒凹小，遠(yuǎn)缺隙側(cè)倒凹大。
②二型觀測(cè)線：基牙向缺隙方向傾斜時(shí)所畫出的觀測(cè)線。
特點(diǎn)：近缺隙側(cè)距*面近，倒凹大，遠(yuǎn)缺隙側(cè)距*面遠(yuǎn)，倒凹小。
③三型觀測(cè)線：基牙向頰側(cè)或舌側(cè)傾斜時(shí)所畫出的觀測(cè)線。
特點(diǎn)：近、遠(yuǎn)缺隙側(cè)都距*面近。
2觀測(cè)線與卡環(huán)類型的關(guān)系
①一型卡環(huán)臂適用于一型觀測(cè)線；一型卡環(huán)臂具有良好的固位、穩(wěn)定作用，也有支持作用。
②二型卡環(huán)臂適用于二型觀測(cè)線；二型卡環(huán)臂的固位作用較好，但穩(wěn)定和支持作用稍差。
③三型卡環(huán)臂適用于三型觀測(cè)線。
四、確定最終設(shè)計(jì)
根據(jù)以上原則，固定模型的位置，畫出各基牙的觀測(cè)線，依據(jù)觀測(cè)線的位置決定固位體的位置和類型，及組織倒凹位置和基托的伸展等。
五、填塞倒凹
在模型上用石膏將不利于義齒就位的軟硬組織倒凹填上，以免非彈性部件做在倒凹區(qū)內(nèi)妨礙義齒就位。
應(yīng)填倒凹的部位：
①缺失牙近遠(yuǎn)中鄰牙的硬組織倒凹；
②基托范圍內(nèi)，妨礙就位的硬軟組織倒凹；
③基牙及義齒范圍內(nèi)余留牙的楔形缺損；
④硬區(qū)、骨突和齦乳頭等需要緩沖的區(qū)域應(yīng)薄薄的刷上一層石膏；
⑤模型缺損，氣泡及拔牙創(chuàng)未愈而形成的明顯凹陷。
注意：填倒凹前一定要用水浸透模型；填補(bǔ)石膏不宜過(guò)多，尤其前牙不能超過(guò)鄰唇軸線角，后牙一般不能超過(guò)鄰頰軸線角。
實(shí)驗(yàn)三 彎制卡環(huán)
目的要求：初步掌握各類卡環(huán)的彎制方法；
掌握各種技工鉗的使用方法。
器材：
日月鉗、刻斷鉗、三得鉗、桿鉗、紅藍(lán)鉛筆、不銹鋼絲19號(hào)、20號(hào)、電機(jī)、輪形石、*支托扁鋼絲等。
一、卡環(huán)彎制的要求：
1將卡環(huán)各個(gè)部分放在模型正確的位置上；
2金屬絲避免重復(fù)多次的彎曲和扭轉(zhuǎn)，以免造成折斷；
3制作過(guò)程中不能損傷模型；
4卡環(huán)不能影響咬合，其堅(jiān)硬部分應(yīng)與模型貼合，不能進(jìn)入倒凹區(qū)以免影響義齒就位；
5盡量選用對(duì)金屬絲損傷小的器械，減少鉗夾痕跡；
6卡臂尖應(yīng)磨圓鈍，以防義齒摘戴時(shí)損傷口腔軟組織。
卡環(huán)彎制的要點(diǎn)：
1鉗子固定手用力；
2目測(cè)訓(xùn)練要熟悉；
3轉(zhuǎn)彎記號(hào)要做準(zhǔn)；
4鉗夾位置要適宜；
5動(dòng)作輕巧勤比試；
6對(duì)驗(yàn)咬合勿忘記。
二、支托的彎制
1.目測(cè)缺牙間隙大小用三得鉗和日月鉗將扁鋼絲彎成與缺隙相適應(yīng)的弧形；
2.將弧形鋼絲在模型上比試調(diào)整后再對(duì)準(zhǔn)支托凹邊緣嵴的扁鋼絲上做記號(hào)將鋼絲向下彎曲，然后在彎曲5mm處向相反方向彎曲；
3.第二次比試，使之與支托窩相貼合，剪去多余鋼絲；
4.將支托磨成圓三角形，使根部稍厚，尖端逐漸變薄，使之與支托窩進(jìn)一步密合。
三、彎制卡環(huán)
1.I型卡的彎制：
①首先將0.9mm的鋼絲調(diào)直；
②用三得鉗尖端大銳角夾住鋼絲末端向外下方彎轉(zhuǎn)，形成一與牙頰面頸部形態(tài)相一致的弧度；
③在卡體轉(zhuǎn)角部分用紅筆作記號(hào)，用三德鉗大銳角夾住轉(zhuǎn)角畫線稍后0.5mm處向下后外方向彎曲成約45度，然后將鋼絲打開(kāi)少許（轉(zhuǎn)彎要點(diǎn)：三定一控制即定位、定點(diǎn)、定向、控制力量)；
④將卡體向下離開(kāi)組織面約1～2mm，在鋼絲上畫一標(biāo)記作水平方向彎曲使連接體和牙槽嵴保持約0.5mm的間隙；
⑤連接體末端彎成水平彎曲搭于支托連接體上，剪去多余鋼絲，將卡臂尖用蠟固定于模型上。
2.III型卡環(huán)的彎制
要點(diǎn)同I型卡，只是III型卡鋼絲沿觀測(cè)線彎制。
3.隙卡的形成
卡臂尖要深入牙鄰間隙內(nèi)少許，形成與基牙頰側(cè)頸緣相一致的卡臂，在相當(dāng)于隙卡溝頰側(cè)緣做一記號(hào)，轉(zhuǎn)彎于隙卡溝相吻合，連接體應(yīng)均勻離開(kāi)組織面0.5mm。
隙卡的走行是：由基牙頰側(cè)鄰間隙，沿齦緣上0.5mm至另一側(cè)鄰間隙，然后垂直向上到頰外展隙，隙卡溝、舌外展隙形成連接體。
注意：1不要損傷模型。
2卡環(huán)各個(gè)部分應(yīng)放在正確位置。
4.焊接
將卡環(huán)放于支托上的部分焊接在一起。焊接時(shí)應(yīng)注意焊金不要多；勿將鋼絲燙得過(guò)熱，以免卡環(huán)變位。
實(shí)驗(yàn)四 排牙、雕牙
目的要求：1.掌握可摘局部義齒排牙的原則和方法；
2.掌握可摘局部義齒蠟型形成的原則和方法；
3.學(xué)會(huì)基托蠟的使用方法和雕牙的方法；
器材：
彎制完卡環(huán)后的模型、酒精燈、蠟刀、蠟片人工牙、酒精噴燈。
步驟
一、鋪蠟：在工作模型上用鉛筆畫出基托界限，將一層蠟片平放在模型上，切成和基托大小相似的形狀，然后放到酒精燈上微熱，待蠟片變軟后，輕壓使其與模型完全粘合，用蠟刀去除多余的蠟片。
二、選牙：人工牙有各種大小、形態(tài)和顏色，應(yīng)根據(jù)缺隙的大小、鄰牙外形和顏色、面型*力大小和對(duì)頜牙情況進(jìn)行綜合衡量選擇 ，并參考患者意見(jiàn)。
人工牙的顏色、大小、形態(tài)應(yīng)與鄰牙或?qū)︻M牙相協(xié)調(diào)。
三、排牙：前牙排列應(yīng)恢復(fù)面容美觀，輔助發(fā)音、切割為主。
前牙排列應(yīng)與鄰牙和對(duì)頜牙相協(xié)調(diào)與同名牙相對(duì)稱。
四、雕牙：后牙排列應(yīng)以恢復(fù)咀嚼功能為主。
將上下頜模型對(duì)好咬合關(guān)系，在缺隙處放一相當(dāng)于失牙大小烤軟的蠟堤，趁軟時(shí)按上下咬合關(guān)系相咬，獲得牙的*面印跡，在按照失牙的解剖外形進(jìn)行雕刻。
實(shí)驗(yàn)五 蠟基托的形成、裝盒
目的要求：掌握可摘局部義齒裝盒的方法和注意事項(xiàng)
掌握三種裝盒方法的適應(yīng)范圍。
器材：
型盒、石膏、橡皮碗、調(diào)刀、毛筆、肥皂水等。
一、蠟基托的形成
1基托蠟型的伸展范圍應(yīng)根據(jù)缺牙的情況和支持類型而定。原則上在保證義齒固位、支持和穩(wěn)定的條件下，應(yīng)該適當(dāng)縮小基托的范圍。
2基托蠟型的厚度要適當(dāng)，厚度一般為2mm。
3基托蠟型的外形在唇頰舌面均應(yīng)呈凹面，唇頰面應(yīng)形成臨床的牙根凸度。
4人工牙頸緣應(yīng)有清楚的頸曲線，并與相鄰天然牙的頸曲線相協(xié)調(diào)。
5基托邊緣應(yīng)用蠟封牢。
6蠟型雕刻完成后，用酒精噴燈將蠟型表面噴光。
二、裝盒
1.裝盒的目的：在型盒內(nèi)形成蠟型的陰模，以便填塞塑料，經(jīng)熱處理后用塑料代替蠟型。
2.裝盒的要求：
A卡環(huán)、人工牙必須包埋牢固，不能變位。
B蠟型盡量暴露，下層型盒與模型包埋后，不能有倒凹，才能使上下型盒容易分開(kāi)。
3.裝盒的方法：
A正裝法：
①定義：整裝法是將模型、支架、人工牙的唇頰面用石膏包埋起來(lái)，暴露人工牙的舌腭面和蠟基托的光滑面。
②優(yōu)點(diǎn)：人工牙和卡環(huán)不易移位；咬合關(guān)系穩(wěn)定；便于在下層型盒內(nèi)填塞塑料。③適用范圍：前牙唇側(cè)無(wú)基托的可摘局部義齒。
B反裝法：
①定義：修整模型時(shí)將石膏基牙去除，使卡環(huán)懸空，并暴露人工牙和蠟基托，裝下層型盒時(shí)僅將模型用石膏包埋起來(lái)，開(kāi)盒后人工牙和支架被翻置于上層型盒內(nèi)，填塞塑料在上層型盒內(nèi)進(jìn)行。
②優(yōu)點(diǎn)：便于涂分離劑和在上層型盒填塞塑料。
③適用范圍：卡環(huán)在下層型盒內(nèi)不便于操作的義齒；
缺牙多而余留牙少的局部義齒；
全口義齒。
C混裝法：
①定義：裝下層型盒時(shí)將模型和卡環(huán)包埋在下層型盒的石膏內(nèi)，而暴露人工牙和蠟基托，讓人工牙翻置于上層型盒，填塞牙冠塑料和基托塑料分別在上下層型盒內(nèi)進(jìn)行。
②優(yōu)點(diǎn)：卡環(huán)不易移位；人工牙頸緣線可作修剪，故與基托的分界清楚。
③適應(yīng)范圍；大部分可摘局部義齒。
步驟：
1裝盒前準(zhǔn)備：
①檢查型盒是否配套、密合等；
②修整模型使其成為適當(dāng)大小和厚度，并修去石膏牙尖，置于水中浸泡，選擇合適的型盒將模型放于下層型盒，模型周圍兩側(cè)離型盒周壁至少5mm間隙有一定距離，牙*面的最高點(diǎn)至少低于上層型盒邊緣5mm。
2裝盒：
調(diào)拌石膏放于下層型盒，將已泡過(guò)的帶蠟型的模型放入，使*面于型盒底平行，模型卡環(huán)包埋在下型盒內(nèi)，僅露出蠟基托、人工牙，去除多余的石膏，注意不要出現(xiàn)倒凹。
待石膏凝固后（約30min)，涂一層肥皂水，沖掉肥皂水，裝上上層型盒，調(diào)拌石膏倒入型盒，滿后蓋上型盒蓋，加壓并去除多余石膏。
注意事項(xiàng)：
1) 修整模型時(shí)，防止損壞模型、卡環(huán)、人工牙和蠟型。
2) 裝盒的石膏稀稠要合適，利于操作。
3) 包埋固定后的石膏外表應(yīng)呈小坡度的駝峰狀或稱之為流線型，否則易形成薄弱部分，加壓后易折斷。
4) 裝上半型盒時(shí)抖動(dòng)不能太大以免塑料牙脫落移位。
實(shí)驗(yàn)六 沖蠟、填膠、熱處理
目的要求：1掌握可摘局部義齒的除蠟填膠、熱處理的方法及注意事項(xiàng)；
2掌握熱凝塑料的使用方法及注意事項(xiàng)。
器材：
沖蠟設(shè)備、煮盒設(shè)備、造牙粉（白色)、牙托粉（紅色)、單體、調(diào)拌刀、玻璃板、型盒夾、壓榨機(jī)等。
一、燙盒、沖蠟
1.燙盒：裝盒后約30min左右，即可燙盒。將型盒置于熱水中浸泡5~10min，使蠟型軟化，用剪刀打開(kāi)型盒，盡量去盡軟化的蠟，用小蠟刀將石膏陰模的薄邊修去。
注意：燙蠟的水溫勿過(guò)高，以免將熔蠟滲入石膏中，影響分離劑的涂布；亦不可溫度過(guò)低，蠟尚未軟化而勉強(qiáng)打開(kāi)型盒，導(dǎo)致包埋石膏折斷。
2.沖蠟：燙盒取出大部分蠟后，用開(kāi)水沖凈殘留余蠟，沖蠟的水溫要高，且有一定的沖擊力。
注意：蠟一定要全部沖凈；如有松動(dòng)脫落的卡環(huán)、成品牙和折斷的石膏等要收集妥善放置以防遺失，沖蠟后復(fù)位固定。
二、填膠
熱凝塑料凝固的過(guò)程：濕砂期、稀糊期、粘絲期、面團(tuán)期、橡膠期、堅(jiān)硬期。其中面團(tuán)期是最適宜填塞的時(shí)期，此期有絲而不粘，在壓力下有一定的流動(dòng)性和可塑性。
1.趁型盒尚未冷卻時(shí)，用毛筆涂分離劑于下層型盒石膏的表面。
注意：分離劑不應(yīng)涂在人造牙組織面和卡環(huán)上，否則易造成人造牙與塑料的分離。
2.先調(diào)白膠，后調(diào)紅膠
取一定量的塑料粉，然后加入單體，粉和液的比例按體積為2：1或5：3配置，或按將單體滴入塑料粉中至完全浸潤(rùn)為止，單體不宜過(guò)多。單體加入后加以攪拌，可促進(jìn)溶脹，顏色均勻。器皿加蓋防止單體揮發(fā)。
3.充填塑料：
①面團(tuán)期為最佳充填時(shí)期，因?yàn)榇似诩炔徽称餍�，又有良好的流�?dòng)性和可塑性，且加壓時(shí)體積能被壓縮以補(bǔ)償部分聚合收縮；
②取一塊適合的白膠置于牙冠型腔內(nèi)，從四周壓緊，用小剪刀修剪邊緣，合適后放回牙冠型腔內(nèi)，牙冠充填先于基托，使充填后牙冠的塑料比基托塑料硬。
③充填基托，紅膠應(yīng)集中在下盒型腔內(nèi)完成，盡可能使紅膠充滿全部腔隙。
④試壓：在上下兩半盒之間隔一玻璃紙，置于壓榨器上緩緩加壓；
⑤試壓后檢查牙冠是否完整，卡環(huán)是否移位，塑料是否填夠；檢查牙冠頸緣線，防止串色。
⑥去除多余的塑料，在人工牙組織面和對(duì)應(yīng)的基托之間涂少量單體，然后將上下層型盒閉合，用壓榨器壓緊，上型盒夾。
4.熱處理：將型盒放于冷水中慢慢加熱約半小時(shí)后煮沸，然后持續(xù)30分鐘左右，自然冷卻后開(kāi)盒。
注意事項(xiàng)：1)塑料調(diào)制粉、液比例要合適，一定在面團(tuán)期充填且充填量足夠。
2)紅白膠分界要清楚。
3)不能有石膏碎塊、玻璃紙、分離劑等污物混入塑料內(nèi)。
4)分離劑涂布完整厚薄均勻。
實(shí)驗(yàn)七 開(kāi)盒磨光
目的要求：掌握開(kāi)盒、磨光的方法及注意事項(xiàng)。
器材：
砂紙、石膏翦、各種磨頭、電機(jī)、錘子、布輪、圓鉆、裂鉆。
一、開(kāi)盒
待型盒冷卻，先以錘子敲擊型盒周圍，然后敲擊下層型盒底蓋使石膏與上下層型盒分離，取下底蓋墊到上層型盒上方，用錘子敲擊底蓋，使上層型盒與石膏分離，然后用石膏剪將局部義齒周圍的石膏剪去。
注意：在剪石膏時(shí)，注意剪切力的方向，防止基托折斷和卡環(huán)變形，尤其是下頜。應(yīng)盡量使剪刀在頰側(cè)與牙槽嵴方向垂直。
二、磨光
1.粗磨：用砂石磨去菲邊和基托的過(guò)長(zhǎng)、過(guò)厚部分；用裂鉆磨去基托組織面的石膏及塑料小瘤；用紙砂片或細(xì)裂鉆切除靠近卡環(huán)體部的多余塑料，但勿損傷卡環(huán)。
2.細(xì)磨：粗磨是細(xì)磨的基礎(chǔ)，只有在粗磨磨平的基礎(chǔ)上才能磨的光亮。用顆粒較細(xì)的砂輪繼續(xù)磨平基托的磨光面。
3.磨光：用砂紙卷進(jìn)一步磨平基托表面，然后用布輪蘸細(xì)砂磨光。
4.磨光應(yīng)達(dá)到的要求：
①基托大小、厚薄合適，邊緣圓鈍，磨光面平整光亮，組織面無(wú)石膏、塑料小瘤及尖銳的突出部分；
②人工牙冠的形態(tài)好，牙間隙整齊，細(xì)致光滑；
③卡環(huán)臂末端圓鈍；
④人工牙冠、支架不得磨損或變形，基托無(wú)折裂、缺損。
注意事項(xiàng)：
1.開(kāi)盒敲擊時(shí)勿損傷義齒；剪石膏時(shí)，注意剪刀力量的方向，防止剪斷基托；
2.磨光時(shí)要保護(hù)好卡環(huán)，防止造成卡環(huán)變形、義齒損壞。
第四部分 支架法制作可摘局部義齒
實(shí)驗(yàn)一 復(fù)制耐高溫材料模型
目的要求：
1.通過(guò)示教與試驗(yàn)，初步掌握帶模型整體鑄造的鑄造模型（耐高溫材料模型)復(fù)制方法。
2.熟悉帶模型鑄造的基本原理。
3.了解耐高溫材料（磷酸鹽)與復(fù)模材料的組成及理化性質(zhì)。
內(nèi)容：
教師示教鑄造模型的復(fù)制方法。
試驗(yàn)器材：
標(biāo)準(zhǔn)石膏模型、雕刀、紅藍(lán)鉛筆、薄蠟片、型盒、橡皮碗、調(diào)拌刀、蒸鍋、復(fù)模材料、磷酸鹽包埋材、專用包埋液、溫度計(jì)、振蕩器、澆鑄口成形器、觀測(cè)器等。
步驟和方法：
1.工作模的準(zhǔn)備
根據(jù)要求修整石膏工作模，用觀測(cè)器確定義齒戴入道，畫觀測(cè)線，填除模型上的倒凹，在模型上進(jìn)行初步設(shè)計(jì)，并畫出支托、卡環(huán)、連接體及連接體的位置，用厚度0.5mm的蠟片置于塑料基托區(qū)（便于塑料基托與金屬網(wǎng)架的結(jié)合)。
2.復(fù)制耐高溫鑄造模型
先將石膏工作模置于水中，讓其充分吸水后取出，去除模型表面多余水分，然后把工作模型放在型盒的中心，用間接加熱方式熔化瓊脂復(fù)模材料，使材料熔化后，自然冷卻，待其溫度下降至50～55℃時(shí)，將其從復(fù)制盒上方的圓孔注入盒內(nèi)，注滿并略微超出，以補(bǔ)償冷卻后的收縮。
待復(fù)模材料冷卻后，從型盒中脫出工作模，將以調(diào)拌好的磷酸鹽材料注入復(fù)制型盒印模內(nèi)，同時(shí)啟動(dòng)振蕩器開(kāi)關(guān)，直至注滿印模。
磷酸鹽模型凝固后脫出印模，自然或放在干燥箱內(nèi)干燥。
注意事項(xiàng)：
1)在復(fù)模材料加熱前，應(yīng)加入少量自來(lái)水以補(bǔ)償加熱過(guò)程中的水分蒸發(fā)，使其溶化后有一定的粘度和流動(dòng)性。
2)石膏工作模型又復(fù)模材料中脫出后，立即灌注磷酸鹽材料，以防復(fù)模材料脫水變形。
3)注入模型材料和磷酸鹽材料時(shí)均應(yīng)注意排出空氣，最好應(yīng)用真空攪拌包埋，以免產(chǎn)生氣泡，影響鑄造模型質(zhì)量。
4)復(fù)制的鑄造模型應(yīng)完整、準(zhǔn)確、清晰。對(duì)于本試驗(yàn)所涉及到的部分材料，請(qǐng)參見(jiàn)《口腔修復(fù)學(xué)》教材有關(guān)章節(jié)。
實(shí)驗(yàn)二 浸蠟（或涂模型表面增強(qiáng)劑)、支架蠟型的制作包埋
目的要求：
1.通過(guò)示教與試驗(yàn)，初步掌握鑄模浸蠟（或涂增強(qiáng)劑)、支架模型的制作、鑄道安放及蠟型的包埋方法。
2.熟悉支架蠟型的包埋目的和意義。
試驗(yàn)器材：
耐高溫鑄模、蠟刀、紅藍(lán)鉛筆、成品蠟支架和網(wǎng)架、各型蠟條、酒精燈、小蠟刀、調(diào)拌刀、電爐、橡皮碗、玻璃板、鑄道座、鑄圈等。
步驟和方法：
1.浸蠟：
在浸蠟前把鑄造模型放入干燥箱兩小時(shí)（或自然干燥)取出，放入已溶沸的蜂蠟中浸30～60秒，取出冷卻至室溫后備用。
也可在干燥的鑄造模型表面均勻涂布一層模型表面增強(qiáng)劑，待其干燥后備用。
2.制作支架蠟型
在復(fù)制的磷酸鹽鑄造模型上核對(duì)最終設(shè)計(jì)，并用紅鉛筆畫出支托、卡環(huán)連接體、舌桿（或腭桿、側(cè)腭桿、金屬基底)和金屬網(wǎng)架的位置及伸展范圍。支架蠟型的制作各部分連接為一整體。
對(duì)支架蠟型的要求：
（1)支架蠟型的各部分應(yīng)與鑄造模型表面緊密貼合。
（2)支托與卡環(huán)相連的部位應(yīng)稍寬稍厚，但不能影響咬合關(guān)系，由卡環(huán)臂到卡環(huán)尖應(yīng)逐漸減細(xì)，以消除應(yīng)力集中，防止卡環(huán)折斷。
（3)連接桿的位置：后腭桿：寬度約3.5～4.0mm，厚度約1.5～2mm，桿的中份較邊緣稍厚。前腭桿：寬約2.5～3.0mm。其邊緣薄而圓滑，距牙頸緣約3～4mm。側(cè)腭桿：連接前后腭桿，位于上頜隆突兩側(cè)，與腭側(cè)齦緣相距約4～6mm，且與牙弓平行。舌桿：位于下頜舌側(cè)齦緣與舌系帶或粘膜皺壁之間，距牙頸緣約3～4mm，其位置視牙槽骨的形態(tài)而異，舌桿寬約2.5～3.0mm，厚約1.5～2.0mm，舌桿的橫切面呈半梨形。
（4)卡環(huán)的較堅(jiān)硬部分和連接體蠟型不能伸入倒凹區(qū)。
（5)完成的支架蠟型要求結(jié)構(gòu)合理，表面光滑，精致，美觀。
3.安放鑄道：
安放鑄道主要目的是形成熔金進(jìn)入鑄模腔的通道，帶模鑄道一般有兩種類型，即單一鑄道和復(fù)數(shù)鑄道兩種。復(fù)數(shù)鑄道的安放方式有兩種：一種是將鑄道安放在鑄型的上方；另一種為倒置鑄道，即把鑄道安放在鑄型的底部。復(fù)數(shù)鑄道的位置安放步驟是：完成蠟型支架后，根據(jù)支架蠟型的大小，形狀和部位，選用直徑約為2～4mm的圓形蠟條形成主鑄道，再用直徑為1.5mm的圓形蠟條形成2～4個(gè)輔助鑄道。各鑄道的上部均與其相應(yīng)部位的連接體、固位體或網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)光滑連接，其下端通過(guò)模型底部的孔與鑄道座連接。各鑄道的長(zhǎng)短應(yīng)大致相等，以便熔化的金屬能同時(shí)流到鑄件的各部分，在模型的四周設(shè)幾個(gè)溢氣道，以保證鑄造成功。此外，在主鑄道與其它鑄道的連接處，鑄道與支架蠟型的連接處形成光滑連接，便于金屬流動(dòng)，為防止鑄金收縮，可在主鑄道的中心設(shè)置儲(chǔ)金庫(kù)。
4.蠟型的包埋：
包埋的主要目的是利用包埋材料的熱膨脹系數(shù)來(lái)補(bǔ)償鑄金的收縮。蠟型鑄道與鑄造座連接后，用毛筆蘸肥皂水除去支架蠟型上的油污，去除蠟型表面的水分，然后用兩次法包埋蠟型。
（1)內(nèi)層包埋：分別取石英粉（或剛玉粉)和正硅酸乙酯水解液，按2：1～3：1的粉液比例在小杯內(nèi)調(diào)和，均勻的涂布于支架蠟型、鑄道及鑄造座上，立即在其表面撒上一些石英粉（100目)，吸出多余液體，然后將鑄造模型置于濃氨水密封器皿中（使硅酸乙酯快速水解，加速其凝固)。15分鐘后從濃氨水密封器皿中取出模型，用同樣的方法進(jìn)行第二次包埋，15分鐘后再次取出模型，進(jìn)行外層包埋。
（2)外層包埋：選擇大小適宜的鑄圈，將其置于玻璃板上，取適量的外包埋料（粗石英砂與煅石膏的體積比為2：1)，加適量的自來(lái)水調(diào)和后灌注鑄圈，同時(shí)在鑄造模型上的蠟型部位灌入少量外包埋料，立即將鑄造模型倒置式插入已盛有外包埋材料的鑄圈中心部位，注意排除空氣，同時(shí)輕輕敲擊鑄圈外殼，使其自行就位。
注意事項(xiàng)：
1)鑄件質(zhì)量很大程度上取決于支架蠟型的制作質(zhì)量，因此，要求蠟型的制作應(yīng)十分精細(xì)。
2)鑄道最好呈弧形，盡量避免呈直線，以減少逐漸收縮而引起的鑄件變形；總鑄道至各分鑄道的距離最好相等，總鑄道橫截面積最好相當(dāng)于各分鑄道橫截面之和；應(yīng)注意鑄道的安放與離心力方向一致，以保證鑄造成功。
3)在進(jìn)行蠟型內(nèi)外包埋時(shí)，應(yīng)避免產(chǎn)生氣泡。
實(shí)習(xí)三 焙燒與鑄造
目的要求：
1．通過(guò)示教與實(shí)驗(yàn)，熟悉代模鑄造的焙燒與鑄造方法。
2．了解高頻感應(yīng)離心鑄造機(jī)的工作原理。
內(nèi)容：
1．鑄圈的焙燒。
2．鑄造。
實(shí)驗(yàn)器材：
鑄造模型鑄圈、石膏刀、烤箱、高頻感應(yīng)離心鑄造機(jī)、鈷鉻合金、鑷子等。
步驟與方法：
1．加熱干燥鑄圈：
去除鑄圈外面的外包埋料和鑄圈中心的鑄道座，把鑄圈倒置于電烤爐內(nèi)加熱，升溫到300℃，維持30分鐘，使鑄圈充分干燥，去蠟。
2．焙燒：將鑄圈放入烤箱，從300℃開(kāi)始徐徐加溫，升溫到700℃，維持30分鐘，再升溫維持15分鐘，即可進(jìn)行鑄造。
3．鑄造：鑄造過(guò)程及設(shè)備調(diào)試見(jiàn)鑄造全冠。
注意事項(xiàng)：
1)鑄圈的干燥、烘烤時(shí)升溫不宜過(guò)快，否則會(huì)使包埋料裂開(kāi)甚至炸裂，蠟型破壞，造成鑄造失敗。
2)外包埋料是以石膏為結(jié)合劑,烘烤時(shí)間過(guò)長(zhǎng)會(huì)使石膏分解,應(yīng)避免重新烘烤鑄造模型.
3)鑄造時(shí)應(yīng)嚴(yán)格按操作要求和程序進(jìn)行操作,以保證鑄造成功,保護(hù)設(shè)備.
4)鑄造口的中心位置不得偏離鑄造環(huán)的幾何中心線.
實(shí)習(xí)四 鑄件的噴砂、打磨與拋光
實(shí)驗(yàn)要求：
1．通過(guò)示教與實(shí)驗(yàn)，初步掌握整鑄件的噴砂、打磨、拋光技術(shù)。
2．了解機(jī)械打磨拋光和電化學(xué)拋光的基本原理。
3．了解常用電解液的配方及其性質(zhì)。
內(nèi)容：
1．教師示教鑄件噴砂、打磨和拋光。
2．學(xué)生獨(dú)立完成一件鑄件的噴砂、打磨和拋光。
實(shí)驗(yàn)器材：
鑄件、打磨機(jī)、砂片、各種類型的砂石針、砂紙圈、絨輪、拋光粉、電解槽、電解液、噴砂機(jī)等。
步驟和方法：
1．鑄圈中取出鑄件：
待鑄件自然冷卻后，從鑄圈中脫出鑄件，可用小錘子輕擊鑄件周圍包埋粉，使其脫落，再用小刀或雕刻刀去除鑄件表面的大部分包埋材料，使鑄件表面基本清潔。
2．噴砂：
噴砂的目的是清除鑄件表面的包埋料，啟動(dòng)噴砂機(jī)開(kāi)關(guān)，待氣壓上升至4kg/cm2時(shí)，即可進(jìn)行鑄件的噴砂，在噴砂過(guò)程中，要經(jīng)常改變鑄件位置，以去除鑄件各部位的包埋料，使鑄件清潔。
3．切除鑄道，打磨鑄件：
用裝在打磨機(jī)上的砂片，精心切除鑄道，然后用小砂輪磨除鑄件上多余的金屬部分，如廢邊、金屬瘤等，并修整鑄件外形。在打磨中，器材使用由粗到細(xì)，以使鑄件表面光滑、美觀、戴用舒適。此外，支托、卡環(huán)連接體的組織面等部位應(yīng)嚴(yán)禁磨除。
4．拋光：
拋光的目的是使鑄件表面光滑、美觀，減少食物殘?jiān)谄浔砻娴母街�，戴用舒適。此外，經(jīng)電化學(xué)拋光的鑄件表面鈍化膜尚有抗腐蝕和抗氧化作用。
(1)機(jī)械打磨拋光
用絨輪和氧化鉻對(duì)以打磨好的鑄件表面各部位進(jìn)行拋光，直至具有較高的光澤度為止。
(2)電化學(xué)拋光(電解拋光)
電化學(xué)拋光的基本原理是在特定的電解液中，使鑄件表面被電解溶化，溶解的金屬和電解液形成薄膜覆蓋在高低不平的鑄件表面上，凸起部分較凹陷部分薄,因此突出部分的電流密度大于凹陷部分的電流密度，密度大處的金屬溶解快，凹陷部分溶解慢，已達(dá)到切削鑄件表面細(xì)微粗糙面之目的。電化學(xué)拋光的步驟和方法如下：
把經(jīng)打磨、拋光之鑄件放入盛有蒸餾水的玻璃皿中，再將玻璃皿置于超聲波清洗劑中震蕩5—10分鐘，清潔鑄件。去除鑄件，用干凈吸水紙除其表面水分、干燥、預(yù)熱電解槽中電解液（60—70℃)，把拋光清潔的鑄件掛在正極（負(fù)極為鉛板)，正負(fù)極相距4毫米，調(diào)節(jié)電流強(qiáng)度，電解約5—10分鐘，取出鑄件，用熱水清洗，再把鑄件放入10%的苛性液（NaOH)中震蕩清洗5—10分鐘，中和鑄件上殘余的電解液，取出鑄件。
注意事項(xiàng)：
1)在取出鑄件、切割鑄道、打磨鑄件時(shí)應(yīng)仔細(xì)、防止鑄件變形或損壞鑄件，
并注意安全。
2)噴砂的氣壓以4—8kg/cm2為宜，過(guò)大會(huì)使鑄件受損，過(guò)小則去除氧化物及包埋料困難。
3)在切割鑄道和打磨過(guò)程中，由于磨擦作用使鑄件產(chǎn)熱，可采用浸水措施散熱。
4)電化學(xué)拋光僅能消除鑄件表面微細(xì)的凸凹不平，并不能代替機(jī)械性打磨拋光，因此機(jī)械性打磨拋光應(yīng)嚴(yán)格遵守又粗到細(xì)的原則，如果鑄件有明顯粗糙痕跡，有氧化層及有嚴(yán)重缺陷或鑄件過(guò)薄等，均會(huì)影響電解拋光的質(zhì)量。必要時(shí)電解后需要進(jìn)一步機(jī)械拋光。
5)在進(jìn)行電解拋光時(shí)，應(yīng)視鑄件厚度和大小，合理選擇電流強(qiáng)度和電解時(shí)間，電流強(qiáng)度過(guò)大或電解時(shí)間過(guò)長(zhǎng)，會(huì)造成鑄件損壞。
第五部分 全口義齒修復(fù)
目的要求：
通過(guò)臨床見(jiàn)習(xí)和實(shí)驗(yàn)室操作，使同學(xué)們初步掌握全口義齒的制作方法和操作步驟。
實(shí)驗(yàn)一 無(wú)牙頜病人的口腔檢查、取印模、灌模型
目的要求：
1.掌握無(wú)牙頜病人的口腔檢查方法。
2.學(xué)會(huì)仿頭模的使用方法。
3.初步掌握無(wú)牙頜病人取印模、灌模型的方法。
器材：
無(wú)牙頜托盤、印模材、石膏、調(diào)拌刀、橡皮碗、小刀、變色鉛筆、玻璃板
步驟和方法：
一、無(wú)牙頜病人的口腔檢查
檢查前，先將治療椅調(diào)整到合適的位置，使患者頭部微向后傾，張口時(shí)下頜平面成水平位，其高度與操作者的肘部相平。
1.頜面部的比例關(guān)系：
觀察面下1/3的高度與面部是否協(xié)調(diào)，唇頰部豐滿度情況，上唇的長(zhǎng)短，下頜有無(wú)偏斜和前伸，下頜關(guān)節(jié)有無(wú)疼痛，彈響，顏面部左右是否對(duì)稱。
2.無(wú)牙頜的情況
(1)牙槽嵴的局部情況：①牙槽嵴的豐滿度，是否為刃狀牙槽嵴有無(wú)骨尖、骨棱（與義齒的固位有關(guān))；②上下頜隆突是否明顯（注意緩沖該部位)；③兩側(cè)上頜結(jié)節(jié)頰側(cè)是否存在過(guò)大的倒凹（一側(cè)大可用于固位，兩側(cè)大應(yīng)考慮切除)；④系帶附麗情況（義齒的穩(wěn)定性)；粘膜有無(wú)炎癥，有無(wú)活動(dòng)性軟組織，腭穹窿的高度。
(2)頜弓的形狀和大小：頜弓的形狀為方形、卵圓形、三角形或混合形；上下頜弓的形狀和大小是否協(xié)調(diào)，兩側(cè)吸收情況是否一致。
(3)頜間距離的大小。
(4) 上下頜牙槽嵴的前后位置關(guān)系是否正常。
(5)上下頜牙槽嵴內(nèi)外位置關(guān)系。
(6)口腔粘膜的厚度與性質(zhì)。
3.唾液：注意唾液的分泌量與稀稠度；
4.對(duì)原有義齒的檢查：如果患者有舊全口義齒，則應(yīng)詢問(wèn)重做的原因和要求，檢查固位，穩(wěn)定、咬合關(guān)系，面部垂直距離以及口腔組織的情況等；
5.牙槽嵴周圍軟組織的附麗情況；
此外還應(yīng)檢查了解患者的身體健康，精神狀態(tài)等情況。
二、取印模
印模的分類：一次印模、二次印模；張口式印模、閉口式印模。臨床上多采用二次印模法。
（一)步驟
1 選取托盤：無(wú)牙頜托盤底部與牙槽嵴的外形相似。上頜托盤的寬度應(yīng)比上頜牙槽嵴寬2～3mm，周圍邊緣高度應(yīng)離開(kāi)粘膜皺襞約2mm，長(zhǎng)度需達(dá)到上頜結(jié)節(jié)遠(yuǎn)中翼上頜切跡，后緣應(yīng)超過(guò)顫動(dòng)線3～4mm；下頜托盤的高度和寬度的要求與上頜的托盤相同，后緣應(yīng)蓋過(guò)磨牙后墊。
2 取印模（二次印模法為例)：
（1)制作個(gè)別托盤：
將印模膏放置在60℃~70℃熱水中水溶軟化，軟化的印模膏放置在選好的托盤上，輕壓印模膏使之呈牙槽嵴形狀的凹形，取上頜印模時(shí)，醫(yī)生站在患者的右后方，右手持盛有印模膏的托盤，左手食指拉開(kāi)患者的左側(cè)口角，托盤旋轉(zhuǎn)至患者口中，將托盤柄對(duì)準(zhǔn)面部中線，加壓使托盤就位，以右手食指和中指在口蓋處穩(wěn)定托盤于一定位置，左手輕輕牽拉頰部肌肉向下前內(nèi)，牽拉上唇向下內(nèi)方，行肌功能整塑，使唇頰部組織活動(dòng)情況反映在印模邊緣。沖冷水使印膜膏硬固后，自后緣脫位，旋轉(zhuǎn)取出。
上頜分三區(qū)，即上頜結(jié)節(jié)到頰系帶到對(duì)側(cè)上頜結(jié)節(jié)進(jìn)行分區(qū)的個(gè)別托盤的修整。具體操作是，先將一個(gè)區(qū)域的印模膏在酒精燈上烤軟，在熱水中浸一下后立即至口中就位，做肌功能整塑。
取下頜印模時(shí)，醫(yī)生站與患者的右前方，右手持托盤左手牽拉口角，旋轉(zhuǎn)進(jìn)入，對(duì)準(zhǔn)中線，右手食指與中指分別放于托盤相當(dāng)于兩側(cè)雙尖壓區(qū)輕壓就位同時(shí)囑患者抬舌前伸并左右擺動(dòng)，并在印膜膏的可塑期內(nèi)完成其功能整塑。即：牽拉頰部向上前內(nèi)，牽拉下唇向上內(nèi)方。
將初印模組織面均勻刮去一層，約0.5mm，托盤邊緣刮去2mm，形成個(gè)別托盤。
4 取終�。�
調(diào)和彈性印模材放于托盤內(nèi)旋轉(zhuǎn)進(jìn)入，對(duì)準(zhǔn)中線，顫動(dòng)就位，穩(wěn)定均壓，做肌功能整塑，但幅度不應(yīng)過(guò)大，然后穩(wěn)定在該位置上，待凝固后取下。
（二)印模的要求：
1 使組織受壓均勻；
2 適當(dāng)擴(kuò)大印模面積，印模邊緣應(yīng)有一定的厚度，其厚度為2～3mm。
3 采取功能性印模：在取印模時(shí)，在印模材料可塑期內(nèi)進(jìn)行肌功能整塑，患者自行進(jìn)行或在醫(yī)師幫助下，唇頰和舌做各種動(dòng)作塑造出印模的唇頰舌側(cè)邊緣與功能運(yùn)動(dòng)的粘膜皺襞和系帶相吻合。
4 保持穩(wěn)定的位置。
三、灌模型
要求：模型邊緣外側(cè)約3～4mm，邊緣要有約4～5mm厚且均整；模型厚度應(yīng)適當(dāng)，最薄處不應(yīng)小于5mm。
方法：同可摘局部義齒
實(shí)驗(yàn)二、制作暫基托、確定頜位關(guān)系并轉(zhuǎn)移至*架
目的要求：
1掌握暫基托的適應(yīng)癥。
2初步掌握制作暫基托的方法。
3初步掌握確定*位記錄的方法。
4熟悉面弓、*架的構(gòu)造并掌握使用的方法。
5掌握轉(zhuǎn)移*位記錄的原理，并熟悉操作方法。
器材：蠟片、工作模型、酒精燈、蠟刀、基托、*平面板、垂直距離測(cè)量尺、液體石蠟、變色鉛筆、Hanau*架、石膏、調(diào)拌刀、橡皮碗等。
上下頜模型準(zhǔn)備好后，則在其上形成*托。*托是基托與*堤兩部分構(gòu)成，借著*托可以確定上下頜的各種關(guān)系，恢復(fù)唇頰豐滿度，初步建立*平面，并可借用面弓將其轉(zhuǎn)移到代表上下頜骨關(guān)系的咬合架上。
基托是與口腔組織直接接觸的部分，它分為暫基托和恒基托兩種，暫基托一般用于*位關(guān)系較好，牙槽嵴較豐滿的患者，恒基托一般用于牙槽嵴較低平，*位關(guān)系較差的患者。
一、暫基托的制作
（1)后堤區(qū)的處理：在上頜模型上做兩側(cè)翼上頜切跡與腭小凹后2mm的連線，依后界刻一深約1～1.5mm的溝，并以腭中縫為界，兩側(cè)各畫一向前的弧線使弧線與后界的最大距離為5mm，越向前、向兩側(cè)刮除的越少，使與上腭的粘膜面移行。
（2)形成蠟基托：將蠟片烤軟疊捏成雙層，按于模型組織面，使之貼合，其次與牙槽嵴、唇頰面貼合，不要使蠟片有過(guò)薄處，邊緣厚度應(yīng)根據(jù)印模的邊緣形成�？陕袢朐隽z，即在臨近基托后緣或牙槽嵴的內(nèi)側(cè)，埋入一鋼絲，以防蠟基托變形。下頜可將增力絲或舌桿埋在下牙槽嵴的舌側(cè)托內(nèi)。
2．試戴暫基托：
從模型上取下蠟基托，用燒熱的蠟刀將邊緣燙光滑后，戴入口內(nèi)，檢查蠟基托唇頰舌側(cè)及后緣伸展是否足夠，邊緣是否密合，再檢查暫基托的固位穩(wěn)定情況，用食指輕壓左右牙槽嵴，檢查基托有無(wú)翹動(dòng)。再用食指及拇指將基托取下檢查是否有吸附力。
二、確定頜位關(guān)系并轉(zhuǎn)移至*架
1．形成上頜*堤：將蠟片烤軟卷成8～10mm直徑的蠟條，按牙槽嵴的形狀粘著于基托上，引入口中，以*平面板規(guī)按壓其表面，形成*平面。
要求： A *平面的前部在上唇下緣以下露出約2mm，且與瞳孔連線平行。
B*平面的后部，從側(cè)面觀要與鼻翼耳屏線相平行。
C*堤的唇面要充分襯托出上唇，使上唇豐滿而自然。
D修整*平面寬度，前牙區(qū)約為6mm，后牙區(qū)約為8～10mm，*堤后端修正呈斜坡?tīng)睢?/P>
E*平面上相當(dāng)于4、6處，左右側(cè)分別削出前后兩條不平行的溝，溝深約3mm，以便作上下頜的咬合時(shí)的標(biāo)記。
F在上*托后緣的中央處粘著一個(gè)直徑約5mm的蠟球。
2.確定垂直關(guān)系：即為天然牙列在正中*時(shí)，鼻底至頦底距離，也就是面部下1/3的距離。
確定垂直關(guān)系的方法：
A利用息止頜位垂直距離減去息止頜間隙的方法。在天然牙列存在時(shí)，當(dāng)口腔不咀嚼、不說(shuō)話、不吞咽時(shí)，下頜處于休息的靜止?fàn)顟B(tài)，上下牙列自然分開(kāi)，無(wú)*接觸，叫做息止頜位。此時(shí)上下牙列間存在的間隙叫做息止頜間隙，一般息止頜間隙平均值約為2～3mm。這是常用的方法，讓患者端坐，測(cè)量息止頜位時(shí)面下1/3距離減去2mm。
B瞳孔至口裂的距離等于垂直距離的方法。前提是兩眼平視。
C面部外形觀察法：一般天然牙列存在并且咬在正中*位時(shí)，上下唇呈自然接觸閉合，口裂約呈平直狀，口角不下垂，鼻唇溝和頦唇溝的深度適宜，面部下1/3與面部的比例協(xié)調(diào)。
3．確定水平頜位關(guān)系：
（1) 確定水平頜位關(guān)系的方法：
A卷舌后舔法：患者張口，舌尖卷起舔及上頜托后部的蠟球。這是髁突處于生理后位。
B吞咽咬合法：囑患者在吞咽唾液的同時(shí)咬合至合適的垂直距離。也可在吞咽過(guò)程中，醫(yī)生以手輕推患者頦部向后，幫助下頜退回生理后位。
C后牙咬合法：將上*托就位，置兩示指于下頜牙槽嵴第二前磨牙和第一磨牙處，囑患者輕咬幾下，直到患者覺(jué)得咬合時(shí)能用上力量時(shí)，將粘有烤軟的蠟卷的下頜托就位于口中，仍舊先試咬醫(yī)生的示指，示指劃向*堤的頰側(cè)，上下*托就接觸于下頜生理后位。
（2)步驟：
A. 先將上*托就位于口中囑患者張口，練習(xí)用舌尖卷向后上舔蠟球。反復(fù)練習(xí)。
B. 形成下*堤：將上下*托放入口中，以食指按住下基托，趁*托尚軟時(shí)，囑患者卷舌后舔同時(shí)進(jìn)行咬合，直至到正常的垂直距離。
C. 用冷水使蠟變硬，在上下*托放入口中反復(fù)核對(duì)正中*關(guān)系。
D. 校對(duì)后，用蠟刀在上下*堤上刻畫出面部中線。
4．轉(zhuǎn)移頜位關(guān)系到*架上
A*架的分類：簡(jiǎn)單*架、平均值*架、半可調(diào)*架、全可調(diào)*架。
B詳細(xì)介紹Hanau H2*架：由上頜體、下頜體、側(cè)柱組成。
C面弓是一種工具，用于將患者上頜對(duì)顳下頜關(guān)節(jié)的位置關(guān)系轉(zhuǎn)移至*架上。面弓由*叉和弓體組成。
5.上*架的操作步驟：
(1)調(diào)整好*架。固定切道針與上頜體上緣平齊；固定切導(dǎo)盤面為水平位；將兩側(cè)前伸髁導(dǎo)斜度固定在25°，使髁球緊貼髁槽前壁；將側(cè)方髁導(dǎo)斜度定于15°，切導(dǎo)盤調(diào)節(jié)并固定在10°。
(2)標(biāo)記出髁突外側(cè)面中央部的位置。髁突約位于外眥角至耳屏中點(diǎn)連線上距離耳屏約13mm。
(3)將*叉插入上頜*堤內(nèi)。將*叉尖燒熱插入*堤內(nèi)，*叉的叉尖與*平面平行距*平面約5mm；*叉柄上的中央刻線對(duì)準(zhǔn)上*堤的中線，兩個(gè)小*叉尖也要插入*堤內(nèi)少許，要求*叉柄應(yīng)垂直于弓體的中段。
(4)將下頜托和附有*叉的上頜托分別就位于口中；按正中頜位記錄使上下*托咬合在一起。
(5)將定*夾的插孔套過(guò)*叉柄，兩髁梁內(nèi)側(cè)抵于髁突外側(cè)面中央部的標(biāo)記上，調(diào)節(jié)兩側(cè)髁梁與相同刻度上，扭動(dòng)螺釘固定髁梁。然后固定*叉與弓體上，固定*叉柄。
(6)松開(kāi)固定髁梁的螺釘。
(7)將定*叉固定在弓體上的上*托自口中取出。
(8)將兩髁梁的內(nèi)側(cè)端分別套在*架的髁桿外側(cè)端上，調(diào)動(dòng)兩髁梁于相同刻度后，扭動(dòng)螺釘固定髁梁于髁桿上。
(9)將上*托平面調(diào)節(jié)至與水平面平行的位置，以玻璃板墊于定*夾的下端，以保持上述平面的位置。
(10)將上頜模型就位于上*托上，調(diào)拌石膏固定上頜模型于上*架環(huán)上。
(11)根據(jù)正中頜位記錄固定上下*托于一起。調(diào)好石膏將帶下*托的模型固定在下頜架環(huán)上。
(12)拆去面弓，首先松開(kāi)固定髁梁和定*夾的螺釘，取下弓體。用酒精燈燒熱*叉柄，等與*叉接觸的蠟軟化后，則可較容易地取下*叉。
(13)取前伸*記錄確定水平髁導(dǎo)斜度：上下*托戴入口內(nèi)后，囑患者下頜向前伸約6mm，當(dāng)下*托向上合托閉合時(shí)，*托前緣接觸，而后部離開(kāi)，形成楔形間隙。此間隙出現(xiàn)于髁道斜度呈正度數(shù)時(shí)，正度數(shù)越大，楔狀間隙也越大。此現(xiàn)象稱為克里斯坦森現(xiàn)象。
當(dāng)*堤在正中*關(guān)系時(shí)，全面接觸，當(dāng)下頜作前伸合運(yùn)動(dòng)時(shí)，髁突向前下移動(dòng)，*堤平面前部接觸時(shí)其后部形成越向后越大的間隙。間隙隨髁道斜度的大小不同。
上下*托戴入口中，用厚約3mm的烤軟蠟條，放于下頜*堤平面上，囑患者下頜前伸約6mm，輕輕閉合。避免緊張或用大力。勿將記錄咬穿，*堤與記錄必須均勻地接觸，用冷水將蠟記錄沖冷變硬，取出。
(14)在*架上調(diào)節(jié)髁導(dǎo)斜度：將上下*托放回合架上，將取得的前伸記錄固定在下 *托的*平面上。放松固定髁球的螺釘使上頜體能后移，抬高切導(dǎo)針，使其不影響調(diào)節(jié)髁導(dǎo)盤，放松固定髁導(dǎo)盤的螺釘與正中鎖，使髁導(dǎo)盤能自由轉(zhuǎn)動(dòng)而帶動(dòng)上*托前后俯仰，直到上下*平面與前伸*記錄印跡完全貼合為止，擰緊固定髁導(dǎo)盤的螺釘，此時(shí)*架髁槽的方向，即相當(dāng)人體髁道的方向，稱為水平髁導(dǎo)斜度。髁導(dǎo)盤指示的讀數(shù)相當(dāng)于人體髁道的斜度。
⒂確定側(cè)向髁導(dǎo)斜度的方法：側(cè)向髁導(dǎo)斜度=水平髁導(dǎo)斜度/8+12
實(shí)驗(yàn)三 排 牙
目的要求：掌握總義齒的排牙原則；初步掌握總義齒的牙齒常規(guī)排列方法。
器材：具有上下頜關(guān)系的*架、蠟刀、蠟片、全口人工牙齒、酒精燈、電機(jī)。
(一)總義齒的排牙原則：要充分考慮美觀、功能和組織保健。
1 美觀
A牙列弧度要與頜弓型一致。
B上前牙的位置要襯托出上唇豐滿度。
C牙排列要體現(xiàn)患者的個(gè)性。
2 組織保健
A人工牙排列要不妨礙舌、唇、頰肌的活動(dòng)。
B*平面等分頜間距離。
C盡量將牙齒排列在牙槽嵴頂上，上前牙可排在牙槽嵴頂?shù)拇絺?cè)。
D*力盡可能以垂直方向傳至牙槽嵴頂。
E具備平衡*。
F前牙要排列呈淺覆蓋、淺覆合，正中*時(shí)前牙不接觸。
3 功能：滿意的咬合和有效的咀嚼。
(二)排牙步驟：
1．修整*托。
2．將標(biāo)志線轉(zhuǎn)移至*架模型上。
3．選牙
A 前牙的選擇：前牙應(yīng)考慮美觀，應(yīng)從牙的形態(tài)、顏色、大小等方面進(jìn)行選擇。
寬度：根據(jù)上*托標(biāo)志的口角線間距離選尖牙之間的總寬度選擇。
高度：唇高線至*平面的距離為上中切牙的切2/3高度，下唇線至*平面的距離為下中切牙的切1/2的高度；
形態(tài)：根據(jù)面部形態(tài)與頜弓形態(tài)選擇切牙唇面形態(tài)。
顏色：要考慮患者的皮膚顏色、性別、年齡，并征求患者的意見(jiàn)。
B 后牙的選擇：尖牙遠(yuǎn)中面到磨牙后墊前緣作為后牙的總寬度；
高度：應(yīng)適應(yīng)頜間距離；
*面形態(tài)：解剖式牙、半解剖式牙、非解剖式牙。根據(jù)牙槽嵴的條件決定使用哪種*面形態(tài)的牙
4．排牙方法
排牙應(yīng)按牙三維方向排列，即上下、左右、前后。
A前牙的排列方法：
①中切牙：接觸點(diǎn)與*堤中線一致；切緣落在*平面上，唇面與*堤唇面弧度和坡度一致；頸部微向遠(yuǎn)中傾斜。
②側(cè)切牙：近中面與中切牙的遠(yuǎn)中面接觸，切緣高與*平面1mm；唇面與*堤弧度一致；頸部向舌向和遠(yuǎn)中向傾斜皆大于中切牙。
③尖牙：近中面與側(cè)切牙的遠(yuǎn)中面接觸，牙尖頂接觸*平面，頸部微突向唇側(cè)且略向遠(yuǎn)中傾斜，傾斜度在中切牙與側(cè)切牙之間。
④下前牙：下前牙的切緣和牙尖均高出*平面1mm，與上前牙建立1mm的覆合2mm的覆蓋。
下中切牙近遠(yuǎn)中向近于直立，頸部微向舌側(cè)；下側(cè)切牙唇舌向近中直立，頸部微向遠(yuǎn)中傾斜；下尖牙頸部向遠(yuǎn)中和唇側(cè)傾斜。前牙的旋轉(zhuǎn)度與*堤唇面弧度一致。
B后牙的排列方法：
①第一前磨牙：近中面與尖牙遠(yuǎn)中面接觸，舌尖對(duì)向下后牙牙槽嵴頂連線且離開(kāi)*平面約1mm，頰尖接觸*平面，頸部微向遠(yuǎn)中和頰側(cè)傾斜。
②第二前磨牙：近中面與第一前磨牙遠(yuǎn)中面相接觸，舌尖對(duì)向下后牙牙槽嵴頂連線且接觸*平面，頰尖也接觸*平面，牙長(zhǎng)軸的近遠(yuǎn)中向和頰舌向?yàn)橹绷ⅰ?/P>
③第一磨牙：近中面與第二前磨牙遠(yuǎn)中面相接觸，兩舌尖對(duì)向下后牙牙槽嵴頂連線且近中舌尖接觸*平面，遠(yuǎn)中舌尖離開(kāi)*平面約1mm，近中頰尖離開(kāi)*平面約1mm，遠(yuǎn)中頰尖離開(kāi)*平面約1.5mm，頸部微向腭側(cè)和近中傾斜。
④第二磨牙：近中面與第一磨牙遠(yuǎn)中面相接觸，兩舌尖對(duì)向下后牙牙槽嵴頂連線且且離開(kāi)*平面約1mm，近中頰尖離開(kāi)*平面約2mm，遠(yuǎn)中頰尖離開(kāi)約2.5mm，頸部向腭側(cè)和近中傾斜較第一磨牙為大。
后牙頰尖與*平面的距離：0，0，1，1.5, 2，2.5
舌尖與*平面的距離：1, 0, 0, 1, 1, 1
實(shí)驗(yàn)四 平衡*的調(diào)整
目的要求：熟悉平衡*的理論和調(diào)整平衡合的方法；以及選磨的方法。
平衡合是指在正中*及下頜作前伸、側(cè)方運(yùn)動(dòng)等非正中*運(yùn)動(dòng)時(shí)，上下頜相關(guān)的牙都能同時(shí)接觸，即為平衡*。
1 復(fù)習(xí)五因素十定律：
五因素：髁導(dǎo)斜度（為髁槽與水平面的交角，是利用前伸*關(guān)系記錄將髁道斜度轉(zhuǎn)移至*架上。)、切導(dǎo)斜度、牙尖斜度、補(bǔ)償曲線曲度（全口義齒修復(fù)中所指的補(bǔ)償曲線多限于上尖牙至第二磨牙頰尖頂相連，形成凸向下的曲線。)、定位平面斜度（從上中切牙近中切角至第二磨牙頰尖頂相連而成的三角平面稱為定位平面。定位平面與眶耳平面所交的角度稱為定位平面斜度。)。
髁導(dǎo)斜度和切導(dǎo)斜度間為反變關(guān)系；補(bǔ)償曲線曲度、牙尖斜度和定位平面斜度間為反變關(guān)系；髁導(dǎo)斜度和切導(dǎo)斜度與其余任何一因素都是正變關(guān)系。
2 全口義齒平衡*的要求：
A正中*上下牙尖窩相對(duì)，呈廣泛接觸關(guān)系；
B前伸平衡：當(dāng)前伸咬合時(shí)，不僅上下前牙的切緣互相接觸，而且上下后牙的有關(guān)的牙尖也有接觸；
C側(cè)方平衡*：當(dāng)下頜向左右作側(cè)向咬合運(yùn)動(dòng)時(shí)，不僅工作側(cè)上下*有關(guān)牙尖有接觸，而且平衡側(cè)上后牙的舌尖與下后牙的頰尖也有接觸。
3 前伸平衡*的調(diào)整：
前伸*平衡：當(dāng)下頜前伸至上下前牙相對(duì)，在滑回正中合位過(guò)程中前后牙都有接觸。按后牙接觸情況，可分三點(diǎn)接觸、多點(diǎn)接觸、完全接觸的前伸平衡*。
步驟：將正中*鎖打開(kāi)，推上頜體向后，使上切牙和下切牙切緣相對(duì)。
1)前牙接觸后牙不接觸的調(diào)整：
A不平衡的原因：一般由于前牙切道斜度過(guò)大，覆合過(guò)深，后牙牙尖斜度太小或補(bǔ)償曲度過(guò)小所造成。
B調(diào)整平衡*的方法：首先考慮通過(guò)增大補(bǔ)償曲線的曲度或增加牙尖工作斜面斜度；
其次，在不影響美觀和功能的前提下，可通過(guò)降低下前牙減小前牙的切道斜度；
2)后牙接觸前牙不接觸：
A不平衡的原因：一般由于前牙切道斜度過(guò)小，后牙牙尖工作斜面斜度太大或補(bǔ)償曲度過(guò)大所造成。
B調(diào)整平衡*的方法：可通過(guò)減小牙尖工作斜面斜度，或減小補(bǔ)償曲線曲度；也可通過(guò)升高下前牙以加大切道斜度，取得前伸*平衡。
3)當(dāng)切緣接觸后牙相對(duì)頰尖亦接觸，在前伸運(yùn)動(dòng)過(guò)程中，切導(dǎo)針尖端與切導(dǎo)面亦保持接觸，這表明已達(dá)到完全的前伸平衡。
4 側(cè)方平衡*的調(diào)整：
側(cè)方平衡*：當(dāng)下頜向一側(cè)做咬合接觸滑動(dòng)運(yùn)動(dòng)時(shí)，兩側(cè)后牙均有接觸為側(cè)方*平衡。
步驟：推上頜體向某側(cè)運(yùn)動(dòng)時(shí)，一般有下列幾種情況：
1)工作側(cè)早接觸而平衡側(cè)無(wú)接觸時(shí)的調(diào)整：主要用加大橫合曲線的方法進(jìn)行調(diào)整。即向*方下降上頜磨牙舌尖（對(duì)*牙隨之相應(yīng)調(diào)整)，或向*方升高下頜磨牙頰尖（上頜牙隨之相應(yīng)調(diào)整)，使之調(diào)成平衡*；也可磨改個(gè)別早接觸牙尖但該牙尖應(yīng)是非功能尖。
2)平衡側(cè)早接觸而工作側(cè)無(wú)接觸或接觸不良時(shí)的調(diào)整：主要用減小橫合曲線的方法來(lái)調(diào)整，即降低上頜磨牙的頰尖或升高下頜磨牙舌尖。
5 選磨與調(diào)*
調(diào)整了人工牙列的正中、前伸、側(cè)方*平衡后，為了使義齒有更完善的平衡*。要對(duì)個(gè)別的牙尖及其斜面，加以選磨與調(diào)*，這種調(diào)*不能影響正中*位牙的接觸。
1)選磨的原則：先調(diào)正中*，在調(diào)側(cè)方*及前伸*平衡，保護(hù)功能尖及斜面。
2)選磨方法：
A正中*早接觸的選磨：將咬合紙放于上下牙之間，咬合數(shù)次，記錄早接觸點(diǎn)；在作側(cè)方*檢查，觀察*接觸情況，來(lái)確定調(diào)磨的區(qū)域，用小磨石磨除，直至無(wú)早接觸點(diǎn)為止。在調(diào)磨早接觸點(diǎn)時(shí)，一次不可磨除太多以免造成無(wú)接觸。
①前牙早接觸點(diǎn)的選磨：磨個(gè)別下前牙唇斜面或上前牙舌面；
②后牙早接觸點(diǎn)的選磨：
⑴如為牙尖斜面間的不協(xié)調(diào)造成，調(diào)去牙斜面較突的部分；
⑵如早接觸點(diǎn)在上或下后牙的中央窩，及其相對(duì)的牙尖，要判斷應(yīng)當(dāng)調(diào)中央窩或牙尖，可用側(cè)方運(yùn)動(dòng)來(lái)檢查。
a如該牙在工作側(cè)有早接觸點(diǎn)，但在平衡側(cè)無(wú)早接觸，應(yīng)磨上牙中央窩。
b如該牙在工作側(cè)及平衡側(cè)均有早接觸點(diǎn)，則應(yīng)磨下牙頰尖。
B側(cè)方*早接觸點(diǎn)的選磨：工作側(cè)早接觸——選磨非功能尖，及其斜面；
平衡側(cè)早接觸——選磨功能尖及其斜面。
C前伸*早接觸的選磨：
①前伸運(yùn)動(dòng)前牙不接觸，后牙早接觸：應(yīng)選磨上頜后牙牙尖的遠(yuǎn)中斜面和下頜后牙牙尖的近中斜面；
②前伸運(yùn)動(dòng)前牙早接觸：選磨上前牙切緣舌側(cè)斜面及下前牙切緣唇側(cè)斜面，或選磨上頜后牙牙尖的遠(yuǎn)中斜面。
實(shí)驗(yàn)五 全口義齒的蠟型形成
目的要求：掌握全口總義齒蠟型形成的原則和方法。
器材：蠟刀、蠟片、酒精噴燈。
步驟：
1 基托磨光面蠟型的形成：
將蠟型從模型上取下，對(duì)光檢查基托的厚度。蠟型最薄處約為1.5~2mm，基托邊緣及緩沖區(qū)應(yīng)稍厚點(diǎn)，邊緣厚度應(yīng)根據(jù)粘膜皺襞處間隙而定，但上下頜義齒后界邊緣不宜太厚。
唇頰側(cè)舌側(cè)基托的處理應(yīng)成為凹面，上頜基托的頰面應(yīng)向下外，舌側(cè)應(yīng)向下向內(nèi)；下頜基托的頰面應(yīng)向上向外，舌面應(yīng)向上向內(nèi)。
注意：用蠟密封基托邊緣。
作蠟型時(shí)蠟與組織面要貼合，勿使牙齒受力移位。
2 牙根部的唇頰側(cè)的蠟型：
用雕刻刀與牙面呈45°角，有一側(cè)牙間隙切到另一側(cè)壓間隙，形成凸向根部的弧形牙齦緣，牙冠處露多少要符合患者生理解剖要求。相當(dāng)牙根部的位置形成根部形態(tài)。
牙面上的蠟應(yīng)清除干凈，最后用噴燈吹光蠟型表面。
